恭喜迪睿合株式會社高橋浩幸獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜迪睿合株式會社申請的專利偏光板、光學設備和偏光板的制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113189690B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110014151.2,技術領域涉及:G02B5/30;該發明授權偏光板、光學設備和偏光板的制造方法是由高橋浩幸;武田吐夢設計研發完成,并于2021-01-06向國家知識產權局提交的專利申請。
本偏光板、光學設備和偏光板的制造方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種偏光板、光學設備和偏光板的制造方法。本發明的目的在于提供透過軸透過率高的偏光板和光學設備。該偏光板是具有線柵結構的偏光板,具有透明基板、層疊于上述透明基板的第一面的第一防反射層、從上述第一防反射層突出的多個凸部和層疊于與上述第一面相反的第二面的第二防反射層,上述多個凸部以比使用頻帶的光的波長更短的間距周期性排列,各個凸部在第一方向上延伸、且從上述第一面開始依次具有反射層、電介質層和吸收層,上述第一防反射層和上述第二防反射層具有交替層疊的高折射率層和低折射率層。
本發明授權偏光板、光學設備和偏光板的制造方法在權利要求書中公布了:1.一種偏光板,是具有線柵結構的偏光板,具有透明基板、層疊于所述透明基板的第一面的第一防反射層、從所述第一防反射層突出的多個凸部和層疊于與所述第一面相反的第二面的第二防反射層,所述多個凸部以比使用頻帶的光的波長更短的間距周期性排列,各個凸部在第一方向上延伸,且從所述第一面開始依次具有反射層、電介質層和吸收層,所述第一防反射層和所述第二防反射層具有交替層疊的高折射率層和低折射率層,所述第一防反射層的與所述多個凸部重合的重疊區域的膜厚和不與所述多個凸部重合的非重疊區域的膜厚之差為10nm以上30nm以下。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人迪睿合株式會社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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