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龍圖騰網(wǎng)恭喜深圳天狼芯半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)的專利改善關(guān)斷損耗的IGBT及其制備方法、芯片獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119584614B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510136790.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D62/10；該發(fā)明授權(quán)改善關(guān)斷損耗的IGBT及其制備方法、芯片是由原一帆設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-02-07向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本改善關(guān)斷損耗的IGBT及其制備方法、芯片在說明書摘要公布了：本申請(qǐng)屬于功率器件技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種改善關(guān)斷損耗的IGBT及其制備方法、芯片，通過設(shè)置載流子存儲(chǔ)層為階梯形結(jié)構(gòu)，載流子存儲(chǔ)層的底部覆蓋N型漂移區(qū)，P型基區(qū)形成于載流子存儲(chǔ)層的第一級(jí)階梯上，N型發(fā)射摻雜區(qū)和P型發(fā)射摻雜區(qū)形成于L形結(jié)構(gòu)的P型基區(qū)的水平部上，N型摻雜區(qū)形成于載流子存儲(chǔ)層的頂部階梯的凹槽內(nèi)，柵極介質(zhì)層形成于載流子存儲(chǔ)層的頂部階梯上，柵極介質(zhì)層包裹柵極多晶硅層且柵極多晶硅層與N型摻雜區(qū)相對(duì)，P型阱區(qū)形成于載流子存儲(chǔ)層的頂部階梯上且與柵極介質(zhì)層并列，從而通過減小柵極面積，改變集電極與發(fā)射極之間的電容，并且增加額外的電流抽取通道，進(jìn)一步減小器件的關(guān)斷損耗。

本發(fā)明授權(quán)改善關(guān)斷損耗的IGBT及其制備方法、芯片在權(quán)利要求書中公布了：1.一種改善關(guān)斷損耗的IGBT，其特征在于，包括：P型襯底、N型緩沖層，所述N型緩沖層形成于所述P型襯底的正面；N型漂移區(qū)，所述N型漂移區(qū)形成于所述N型緩沖層上；載流子存儲(chǔ)層，形成于所述N型漂移區(qū)上，所述載流子存儲(chǔ)層為階梯形結(jié)構(gòu)，所述載流子存儲(chǔ)層的底部覆蓋所述N型漂移區(qū)；P型基區(qū)，形成于所述載流子存儲(chǔ)層的第一級(jí)階梯上，且所述P型基區(qū)呈L形結(jié)構(gòu)；N型發(fā)射摻雜區(qū)和P型發(fā)射摻雜區(qū)，形成于L形結(jié)構(gòu)的所述P型基區(qū)的水平部上，且通過所述P型基區(qū)的豎直部與所述載流子存儲(chǔ)層隔離；N型摻雜區(qū)，形成于所述載流子存儲(chǔ)層的頂部階梯的凹槽內(nèi)；柵極介質(zhì)層和柵極多晶硅層，所述柵極介質(zhì)層形成于所述載流子存儲(chǔ)層的頂部階梯上，所述柵極介質(zhì)層包裹所述柵極多晶硅層，且所述柵極多晶硅層與所述N型摻雜區(qū)相對(duì)；P型阱區(qū)，形成于所述載流子存儲(chǔ)層的頂部階梯上，且與所述柵極介質(zhì)層的第一側(cè)接觸；發(fā)射極，與所述N型發(fā)射摻雜區(qū)和所述P型發(fā)射摻雜區(qū)接觸，且與所述柵極介質(zhì)層的第二側(cè)接觸；集電極，形成于所述P型襯底的背面；所述P型阱區(qū)與所述柵極介質(zhì)層的界面為梯形界面，所述P型阱區(qū)為寬度在所述集電極向所述發(fā)射極的方向上逐漸增大的階梯結(jié)構(gòu)。

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