2O3-BZO復(fù)合涂層的制備方法,武漢工程大學(xué),發(fā)明授權(quán)"/>

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恭喜武漢工程大學(xué)趙洪陽獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜武漢工程大學(xué)申請的專利一種適用于刻蝕機(jī)零部件的Y2O3-BZO復(fù)合涂層的制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN119663213B

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510183071.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:C23C14/35;該發(fā)明授權(quán)一種適用于刻蝕機(jī)零部件的Y2O3-BZO復(fù)合涂層的制備方法是由趙洪陽;王世奧;周焱文;楊思捷;付秋明;陶洪;馬志斌設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2025-02-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

一種適用于刻蝕機(jī)零部件的Y2O3-BZO復(fù)合涂層的制備方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種適用于刻蝕機(jī)零部件的Y2O3?BZO復(fù)合涂層的制備方法,包括以下步驟:S1、取襯底進(jìn)行清洗,吹干,UV光清洗機(jī)二次清潔;S2、將步驟S1中襯底置于磁控濺射鍍膜機(jī)內(nèi),邊抽真空邊加熱,達(dá)到本底真空后通入氬氣,對Y2O3和BZO靶材進(jìn)行預(yù)濺射;S3、預(yù)濺射完成后打開擋板,調(diào)節(jié)腔體氣壓,正式濺射開始,正式濺射采用交替濺射形式分別對Y2O3和BZO靶材進(jìn)行濺射形成堆疊復(fù)合涂層,濺射完畢后取出襯底;S4、將步驟S3中的襯底進(jìn)行真空退火,自然降溫,即得Y2O3?BZO堆疊復(fù)合涂層。改復(fù)合涂層采取交替濺射形式形成堆疊復(fù)合涂層,具備良好的耐刻蝕性能,能大幅提高刻蝕機(jī)的使用壽命,減少對晶圓造成的污染。

本發(fā)明授權(quán)一種適用于刻蝕機(jī)零部件的Y2O3-BZO復(fù)合涂層的制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種適用于刻蝕機(jī)零部件的Y2O3-BZO復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:S1、取襯底進(jìn)行清洗,吹干,UV光清洗機(jī)二次清潔;S2、將步驟S1中襯底置于磁控濺射鍍膜機(jī)內(nèi),邊抽真空邊加熱,達(dá)到本底真空后通入氬氣,對Y2O3和BZO靶材進(jìn)行預(yù)濺射;S3、預(yù)濺射完成后打開擋板,調(diào)節(jié)腔體氣壓,正式濺射開始,正式濺射采用交替濺射形式分別對Y2O3和BZO靶材進(jìn)行濺射形成堆疊復(fù)合涂層,濺射完畢后取出襯底;S4、將步驟S3中的襯底進(jìn)行真空退火,自然降溫,即得Y2O3-BZO堆疊復(fù)合涂層;步驟S2中預(yù)濺射時(shí)Y2O3靶材的濺射功率為160~200W,BZO靶材的濺射功率為40~80W;預(yù)濺射時(shí)間為5~15min;步驟S3中正式濺射時(shí)腔體氣壓為0.2~0.6Pa,正式濺射功率與預(yù)濺射相同,正式濺射總時(shí)間為200~300min;堆疊復(fù)合涂層層數(shù)為4~24層,厚度為400~600nm。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人武漢工程大學(xué),其通訊地址為:430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷一路206號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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