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龍圖騰網(wǎng)恭喜應用材料公司申請的專利用于較佳的晶片均勻性的不對稱的注射獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113366623B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080011807.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)用于較佳的晶片均勻性的不對稱的注射是由莊野賢一;維希瓦·庫馬爾·帕迪;克里斯托弗·S·奧爾森;卡爾蒂克·薩哈;漢瑟·勞;托賓·卡芙曼·奧斯本;雷內(nèi)·喬治;勞拉·哈夫雷查克;埃里卡·漢森設計研發(fā)完成，并于2020-01-30向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于較佳的晶片均勻性的不對稱的注射在說明書摘要公布了：一種用于處理基板的氣體注射器包含：主體，所述主體具有能連接至氣體源的入口，所述氣體源被配置為當處理在設置于處理腔室的處理容積內(nèi)的基板支撐件上的基板時，在第一方向上提供氣流至所述入口；及氣體注射通道，所述氣體注射通道形成在所述主體中。所述氣體注射通道與所述入口流體連通且被配置為將所述氣流輸送至所述處理腔室的入口。所述氣體注射通道具有平行于第二方向和第三方向的第一內(nèi)表面和第二內(nèi)表面。所述第二方向和所述第三方向不與所述基板的中心相交，并朝向所述基板支撐件的第一邊緣而與所述第一方向成一角度。

本發(fā)明授權(quán)用于較佳的晶片均勻性的不對稱的注射在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于處理基板的氣體注射器，包含：主體，所述主體具有能連接至氣體源的入口，所述氣體源被配置為當處理在基板支撐件上的基板時，在第一方向上提供氣流至所述入口，所述基板支撐件設置于處理腔室的處理容積內(nèi)，其中所述基板支撐件具有第一邊緣和第二邊緣，所述第二邊緣在正交于所述第一方向的方向上與所述第一邊緣相對；及氣體注射通道，所述氣體注射通道形成在所述主體中，其中所述氣體注射通道與所述入口流體連通，所述氣體注射通道被配置為輸送所述氣流至所述處理腔室的處理腔室入口，所述氣體注射通道具有平行于第二方向的第一內(nèi)表面和平行于第三方向的第二內(nèi)表面，所述第一內(nèi)表面和所述第二內(nèi)表面形成在一個氣體注射通道內(nèi)，所述第一方向、所述第二方向及所述第三方向平行于第一平面，所述第二方向和所述第三方向不與所述基板的中心相交，并朝向所述基板支撐件的所述第二邊緣而與所述第一方向成一角度；所述第二方向從所述第一方向朝向所述基板支撐件的所述第二邊緣傾斜達15°至35°之間，以及所述第三方向大致上與所述基板支撐件的所述第二邊緣相切。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。