恭喜戴蒙得創新股份有限公司艾達莫西·達利斯獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜戴蒙得創新股份有限公司申請的專利具有高度腐蝕的粒子表面和高韌性指數的立方氮化硼粒子群獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112739645B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980059758.3，技術領域涉及：C01B21/064；該發明授權具有高度腐蝕的粒子表面和高韌性指數的立方氮化硼粒子群是由艾達莫西·達利斯;蒂莫西·達姆;張凱設計研發完成，并于2019-09-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本具有高度腐蝕的粒子表面和高韌性指數的立方氮化硼粒子群在說明書摘要公布了：通過將反應性金屬粉末與多個立方氮化硼粒子共混以形成共混的混合物，制造具有高度腐蝕的表面和高韌性指數的立方氮化硼粒子群。將所述共混的混合物壓縮以形成壓縮混合物。使所述壓縮混合物經受溫度和壓力，其中控制溫度以通過使立方氮化硼與所述反應性金屬粉末反應來引起所述多個立方氮化硼粒子的腐蝕，從而形成多個腐蝕的立方氮化硼粒子。此外，控制溫度和壓力以使氮化硼保持為立方氮化硼相。其后，從所述壓縮混合物回收所述多個腐蝕的立方氮化硼粒子以形成所述粒子群。優選地，所述粒子群不包含六方氮化硼。
本發明授權具有高度腐蝕的粒子表面和高韌性指數的立方氮化硼粒子群在權利要求書中公布了：1.多個腐蝕的單晶立方氮化硼粒子，包含：在1300℃以上的溫度和3吉帕斯卡的壓力下腐蝕的壓縮共混的混合物，所述壓縮共混的混合物包含20重量％至90重量％的反應性鋯粉末，以及10重量％至80重量％的多個單晶立方氮化硼粒子，一個以上所述腐蝕的單晶立方氮化硼粒子各自具有多個蝕坑和多個凹槽，其中所述多個蝕坑各自的寬度為500nm～1.5μm，并且深度為100nm～1μm，其中所述多個凹槽各自的長度為5μm～30μm，并且深度為100nm～1μm，腐蝕的單晶粒子群具有積極腐蝕的表面，所述表面具有均勻的亞微米表面圖案和高韌性指數，所述腐蝕的粒子群的韌性指數比具有相同化學組成和晶體結構的未腐蝕、非粗糙的立方氮化硼粒子群低10分～20分，并且其中所述腐蝕的粒子群不含有六方氮化硼。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人戴蒙得創新股份有限公司，其通訊地址為：美國俄亥俄州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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