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龍圖騰網恭喜第一光融有限公司申請的專利真空室密封件獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115004320B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180010543.X，技術領域涉及：G21B1/17；該發明授權真空室密封件是由P·霍利根;J·帕金;J·達林;L·卡巴列羅·本迪克森;O·霍爾設計研發完成，并于2021-01-22向國家知識產權局提交的專利申請。

本真空室密封件在說明書摘要公布了：披露了一種用于真空室的密封件，該密封件由兩個外絕緣塊14、16、中間絕緣塊34、36、一些內部絕緣片74、76、78以及一些外部絕緣片80、82、84形成。第一外絕緣塊14密封在該真空室的第一壁2與第一電力傳輸板10之間。第二外絕緣塊16密封在該真空室的第二壁4與第二電力傳輸板12之間。中間絕緣塊密封在該第一電力傳輸板與第二電力傳輸板之間。這些內部絕緣片被布置在該中間絕緣塊的第一側中的槽62、64、66中。這些外部絕緣片被布置在該中間絕緣塊的第二側中的槽68、70、72中。

本發明授權真空室密封件在權利要求書中公布了：1.一種用于真空室的密封件，其中，所述真空室包括第一壁和第二壁，所述密封件包括：第一外絕緣塊，所述第一外絕緣塊用于在所述真空室的所述第一壁與第一電力傳輸板之間進行密封，所述第一電力傳輸板在所述真空室的所述第一壁與所述第二壁之間從所述真空室的內部延伸到所述真空室的外部；第二外絕緣塊，所述第二外絕緣塊用于在所述真空室的所述第二壁與第二電力傳輸板之間進行密封，所述第二電力傳輸板在所述真空室的所述第一壁與所述第二壁之間從所述真空室的內部延伸到所述真空室的外部；中間絕緣塊，所述中間絕緣塊用于在所述第一電力傳輸板與所述第二電力傳輸板之間進行密封，其中，所述中間絕緣塊包括在所述中間絕緣塊的用于面對所述真空室的內部的第一側中形成的一個或多個槽和在所述中間絕緣塊的用于面對所述真空室的外部的第二側中形成的一個或多個槽；一個或多個內部絕緣片，所述一個或多個內部絕緣片用于在所述真空室的內部于所述第一電力傳輸板與所述第二電力傳輸板之間延伸，其中，所述一個或多個內部絕緣片被布置在所述中間絕緣塊的所述第一側中的所述一個或多個槽中；以及一個或多個外部絕緣片，所述一個或多個外部絕緣片用于在所述真空室的外部于所述第一電力傳輸板與所述第二電力傳輸板之間延伸，其中，所述一個或多個外部絕緣片被布置在所述中間絕緣塊的所述第二側中的所述一個或多個槽中。

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