恭喜華邦電子股份有限公司林昶鴻獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜華邦電子股份有限公司申請的專利埋入式字線結構及其制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115117060B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110285290.9,技術領域涉及:H10B12/00;該發明授權埋入式字線結構及其制造方法是由林昶鴻設計研發完成,并于2021-03-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本埋入式字線結構及其制造方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種埋入式字線結構及其制造方法。所述埋入式字線結構包括第一隔離結構、埋入式字線、第一阻障層、第二阻障層、溝道層以及第二隔離結構。所述第一隔離結構設置于襯底中,且具有溝槽。所述埋入式字線設置于所述溝槽的底面上。所述第一阻障層設置于所述埋入式字線與所述溝槽的側壁與底面之間。所述第二阻障層覆蓋所述埋入式字線的頂面,且包括主體部分與延伸部分,其中所述主體部分位于所述埋入式字線上,且所述延伸部分自所述主體部分的周圍向上延伸。所述溝道層設置于所述第一阻障層與所述第二阻障層上。所述第二隔離結構設置于所述溝道層上。
本發明授權埋入式字線結構及其制造方法在權利要求書中公布了:1.一種埋入式字線結構,其特征在于,包括:第一隔離結構,設置于襯底中,且具有溝槽;埋入式字線,設置于所述溝槽的底面上;第一阻障層,設置于所述埋入式字線與所述溝槽的側壁與底面之間;第二阻障層,覆蓋所述埋入式字線的頂面,且包括主體部分與延伸部分,其中所述主體部分位于所述埋入式字線上,且所述延伸部分自所述主體部分的周圍向上延伸;溝道層,設置于所述第一阻障層與所述第二阻障層上;以及第二隔離結構,設置于所述溝道層上,其中所述溝道層包覆所述第二阻障層,且與所述第一阻障層接觸。
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