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龍圖騰網(wǎng)恭喜湖南新鋒科技有限公司申請的專利一種摻雜金剛石-氧化釕耦合電極及其制備方法和應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115369442B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211070904.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25B11/091；該發(fā)明授權(quán)一種摻雜金剛石-氧化釕耦合電極及其制備方法和應(yīng)用是由伍水平;魏秋平;王劍;譚際麟;黃開塘;羅浩;王寶峰;蔡群歡;陳大偉;張維設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-09-02向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種摻雜金剛石-氧化釕耦合電極及其制備方法和應(yīng)用在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種摻雜金剛石?氧化釕耦合電極及其制備方法和應(yīng)用，所述摻雜金剛石?氧化釕耦合電極包括基底以及設(shè)置于基底表面的電極工作層，所述電極工作層為雙層膜結(jié)構(gòu)，從下至上，依次為氧化釕膜層和摻雜金剛石膜層，所述氧化釕膜層中添加有摻雜金剛石顆粒。該種耦合電極結(jié)合了氧化物涂層電極和摻雜金剛石電極的優(yōu)勢，同時(shí)具有異質(zhì)結(jié)效應(yīng)，具備良好的導(dǎo)電性、耐腐蝕性和機(jī)械強(qiáng)度，可用于電催化污水降解、化學(xué)電池正極輕質(zhì)板柵、電化學(xué)合成、電信號探測、尾氣處理及其他相關(guān)電化學(xué)領(lǐng)域。

本發(fā)明授權(quán)一種摻雜金剛石-氧化釕耦合電極及其制備方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種摻雜金剛石-氧化釕耦合電極，其特征在于：所述摻雜金剛石-氧化釕耦合電極包括基底以及設(shè)置于基底表面的電極工作層，所述電極工作層為雙層膜結(jié)構(gòu)，從下至上，依次為氧化釕膜層，摻雜金剛石膜層，所述氧化釕膜層由氧化釕基體，以及均勻分散于氧化釕基體中的摻雜金剛石顆粒組成；所述氧化釕膜層的厚度為10-120μm，摻雜金剛石膜層的厚度為5-20μm；所述摻雜金剛石-氧化釕耦合電極制備方法為先于基底表面通過電沉積法或復(fù)合熱分解法制備氧化釕膜層，再通過化學(xué)氣相沉積制備摻雜金剛石膜層即得雙層膜耦合電極；所述電沉積法制備氧化釕膜層的過程為：以金屬為陽極，基底作為陰極置于電解液中進(jìn)行電沉積，然后進(jìn)行熱處理即得，所述電解液包含如下成份：三氯化釕1～10gL，氯化鉀3～10gL，鹽酸1～5gL，摻雜金剛石顆粒0.1-50gL；所述電沉積的參數(shù)為：電流密度為200-1000Am2，電解液的溫度為35～60℃，電沉積的時(shí)間為10～120min；所述熱處理的溫度為100℃～300℃，熱處理的時(shí)間為1～5h，升溫速率為5℃～10℃min，真空度為1-100pa，氬氣氣氛流量為20-50sccm；所述復(fù)合熱分解法制備氧化釕活性膜層的過程為：將50-150gL的三氯化釕、10-50gL的水合氧化釕溶解于醇類溶劑獲得混合液，混合液中加入摻雜金剛石顆粒混合均勻，獲得漿料，所述金剛石顆粒與混合液的質(zhì)量比為0.05～250：1000；通過制膜將漿料均勻設(shè)置于基底上，然后置于烘箱中50-80℃烘10-30min，再放入電阻爐中450-650℃焙燒10-30min，反復(fù)操作8-20次，最后一次在電阻爐中焙燒1-2h即得。

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