恭喜西南科技大學;中國工程物理研究院激光聚變研究中心何洪途獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜西南科技大學;中國工程物理研究院激光聚變研究中心申請的專利一種提升熔石英元件激光損傷閾值的表面處理工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116462419B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310510196.8，技術領域涉及：C03C15/00；該發明授權一種提升熔石英元件激光損傷閾值的表面處理工藝是由何洪途;孫來喜;鄭天然;余家欣;劉新祺;鄒蕊矯;王方;李青山設計研發完成，并于2023-05-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種提升熔石英元件激光損傷閾值的表面處理工藝在說明書摘要公布了：本發明提供了一種提升熔石英元件激光損傷閾值的表面處理工藝，通過高溫退火處理實現亞表面缺陷層不同程度地縮小和愈合，然后利用H2O2淺度刻蝕在較少的材料去除量的情況下去除亞表面缺陷層，以達到提升激光損傷閾值的目的。本發明提供了一種更加經濟、清潔、環保和安全的熔石英元件表面處理技術，可有效提升熔石英光學元件的激光損傷閾值，為高質量熔石英元件的在激光慣性核聚變領域的工程應用提供重要技術保障。
本發明授權一種提升熔石英元件激光損傷閾值的表面處理工藝在權利要求書中公布了：1.一種提升熔石英元件激光損傷閾值的表面處理工藝，包括以下步驟：S1：對熔石英元件進行高溫退火處理；S2：對經過S1處理的熔石英元件依次使用無水乙醇和去離子水進行超聲清洗后，用去離子水沖洗熔石英元件的表面，再使用干燥氮氣吹干后待用；S3：對經過S2處理的熔石英元件進行H2O2刻蝕處理，將經過S2處理的熔石英元件放入到H2O2溶液中密封腐蝕，期間采用超聲波和升溫輔助刻蝕；所述S1中，高溫退火的溫度為400℃~1100℃；高溫退火的時長為2～12h；退火腔內氛圍為干燥空氣、氮氣中的任一種；所述S3中，H2O2溶液中雙氧水的濃度為3wt%~30wt%；H2O2刻蝕處理采用熔石英元件的時間為1h~12h；H2O2刻蝕過程中超聲輔助的頻率為20kHz~135kHz，輔助升溫至20℃~100℃。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人西南科技大學;中國工程物理研究院激光聚變研究中心，其通訊地址為：621010 四川省綿陽市涪城區青龍大道中段59號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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