恭喜東京毅力科創(chuàng)株式會社佐藤秀明獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利使用磷酸水溶液的蝕刻處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN111430273B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202010248647.1,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/67;該發(fā)明授權(quán)使用磷酸水溶液的蝕刻處理裝置是由佐藤秀明;佐藤尊三設(shè)計研發(fā)完成,并于2016-01-29向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本使用磷酸水溶液的蝕刻處理裝置在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種使用磷酸水溶液的蝕刻處理裝置。該蝕刻處理裝置具有:處理槽,其用于利用加熱磷酸水溶液而得到的蝕刻液對基板進行蝕刻處理;處理液供給部,其向所述處理槽供給磷酸水溶液;處理液循環(huán)部,其使所述處理槽的內(nèi)部的蝕刻液循環(huán);處理液排出部,其使所述蝕刻液排出;以及控制部,其對所述處理液供給部、所述處理液循環(huán)部以及所述處理液排出部進行控制,其中,所述控制部利用所述處理液循環(huán)部使蝕刻液循環(huán),使蝕刻液從所述處理液排出部排出,并且從所述處理液供給部向所述處理槽供給磷酸水溶液,所述控制部還使用蝕刻液中的硅濃度信息進行控制,以使浸漬了基板的蝕刻液的硅濃度成為規(guī)定濃度范圍。
本發(fā)明授權(quán)使用磷酸水溶液的蝕刻處理裝置在權(quán)利要求書中公布了:1.一種使用磷酸水溶液的蝕刻處理裝置,其特征在于,具有:處理槽,其用于利用加熱磷酸水溶液而得到的蝕刻液對基板進行蝕刻處理;處理液供給部,其向所述處理槽供給磷酸水溶液;處理液循環(huán)部,其使所述處理槽的內(nèi)部的蝕刻液循環(huán);處理液排出部,其使所述蝕刻液排出;以及控制部,其對所述處理液供給部、所述處理液循環(huán)部以及所述處理液排出部進行控制,其中,所述控制部利用所述處理液循環(huán)部使蝕刻液循環(huán),使蝕刻液從所述處理液排出部排出,并且從所述處理液供給部向所述處理槽供給磷酸水溶液,預先調(diào)查所述基板的蝕刻時間、所述蝕刻處理中的蝕刻液的排出量、新的磷酸水溶液的供給量以及蝕刻液中的硅濃度之間的關(guān)系,所述控制部通過在所述基板的蝕刻處理中排出規(guī)定量的蝕刻液并且新供給規(guī)定量的磷酸水溶液來使浸漬了所述基板的蝕刻液的硅濃度成為規(guī)定濃度范圍,所述控制部還使用在規(guī)定的定時測量的蝕刻液中的硅濃度信息進行控制,以使浸漬了基板的蝕刻液的硅濃度成為規(guī)定濃度范圍。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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