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龍圖騰網(wǎng)恭喜西默有限公司申請的專利基于晶片的光源參數(shù)控制獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114755893B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210210593.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)基于晶片的光源參數(shù)控制是由E·A·梅森;O·祖里塔;G·A·瑞克斯泰納;W·E·康利設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2017-10-04向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于晶片的光源參數(shù)控制在說明書摘要公布了：本公開涉及基于晶片的光源參數(shù)控制。例如，一種光刻方法包括從光源產(chǎn)生脈沖光束；使脈沖光束跨光刻曝光設(shè)備的襯底掃描以用脈沖光束曝光襯底，包括用脈沖光束曝光襯底的每個(gè)子區(qū)域。子區(qū)域是襯底的整個(gè)區(qū)域的一部分。對于襯底的每個(gè)子區(qū)域，接收與襯底的子區(qū)域相關(guān)聯(lián)的光刻性能參數(shù)；分析所接收的光刻性能參數(shù)，并且基于該分析，修改脈沖光束的第一光譜特征，并且保持脈沖光束的第二光譜特征。

本發(fā)明授權(quán)基于晶片的光源參數(shù)控制在權(quán)利要求書中公布了：1.一種裝置，包括： 光譜特征選擇系統(tǒng)，其與脈沖光束光學(xué)地交互； 測量系統(tǒng)，被配置為測量所述脈沖光束的一個(gè)或多個(gè)光譜特征； 量測裝置，被配置為確定襯底的每個(gè)子區(qū)域的至少一個(gè)光刻性能參數(shù)，其中子區(qū)域是所述襯底的整個(gè)區(qū)域的一部分，并且其中所述光刻性能參數(shù)是與所述襯底相關(guān)聯(lián)的、或者與和所述襯底交互的所述脈沖光束相關(guān)聯(lián)的特性；以及 控制系統(tǒng)，連接到所述光譜特征選擇系統(tǒng)、所述測量系統(tǒng)、和所述量測裝置，并被配置為對于每個(gè)襯底子區(qū)域： 從所述量測裝置接收經(jīng)確定的光刻性能參數(shù)，并從所述測量系統(tǒng)接收所述脈沖光束的經(jīng)測量的所述一個(gè)或多個(gè)光譜特征； 分析所述襯底的每個(gè)子區(qū)域的經(jīng)確定的所述光刻性能參數(shù)，并分析所述脈沖光束的經(jīng)測量的所述一個(gè)或多個(gè)光譜特征；以及 基于這些分析： 向所述光譜特征選擇系統(tǒng)發(fā)送第一信號，以修改所述脈沖光束的第一光譜特征，其中所述第一光譜特征的修改考慮到經(jīng)測量的所述一個(gè)或多個(gè)光譜特征的分析，并且其中所述第一信號是基于所述光刻性能參數(shù)位于可接受范圍之外的確定而被發(fā)送的；以及 通過在所述脈沖光束的所述第一光譜特征被修改時(shí)將第二信號發(fā)送到所述光譜特征選擇系統(tǒng)，將所述脈沖光束的第二光譜特征保持在所述第二光譜特征的值的范圍內(nèi)。

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