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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司;ASML控股股份有限公司申請的專利用于光刻設備中的襯底保持器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111465901B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201880079853.5，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于光刻設備中的襯底保持器是由T·波耶茲;C·H·M·伯爾蒂斯;A·A·索圖特;M·A·阿克巴斯;D·范登伯格;W·范內希;M·M·C·F·托因尼森設計研發完成，并于2018-11-22向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于光刻設備中的襯底保持器在說明書摘要公布了：本發明提供了一種用于光刻設備的襯底保持器和光刻設備。襯底保持器被配置成支撐襯底，且包括主體、多個支撐元件和密封單元。主體具有主體表面。多個支撐元件從主體表面突伸出，并且每個支撐元件具有配置成支撐襯底的遠端端面。密封單元可以包括第一密封構件，該第一密封構件在徑向上位于所述多個支撐元件的外部并且圍繞所述多個支撐元件。第一密封構件的上表面可以具有被配置成在襯底的加載和或卸載期間與襯底接觸的接觸區域。

本發明授權用于光刻設備中的襯底保持器在權利要求書中公布了：1.一種用于光刻設備中配置成支撐襯底的襯底保持器，所述襯底保持器包括：具有主體表面的主體；從主體表面突出的多個支撐元件，其中每個支撐元件具有被配置成支撐襯底的遠端端面和第一高度；密封單元，包括從主體表面突出的第一密封構件，所述第一密封構件具有上表面和小于第一高度的第二高度且定位于所述多個支撐元件的徑向向外并且圍繞所述多個支撐元件，所述上表面具有配置成在襯底加載和或卸載期間接觸所述襯底的接觸區域；并且其中，接觸區域的位置布置在與多個支撐元件相距足夠充分的距離處，使得在襯底的加載和或卸載期間，由襯底施加到第一密封構件的力大于由襯底施加到多個支撐元件的力；并且其中，在徑向方向上通過第一密封構件的橫截面中，接觸區域的輪廓具有被配置成使得在襯底的加載和或卸載期間所述襯底經由輪廓的至少兩個不同點與第一密封構件接觸的形狀。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司;ASML控股股份有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。