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龍圖騰網恭喜科磊股份有限公司申請的專利具有傾斜周期性結構的計量目標及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111542784B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201880085027.1，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權具有傾斜周期性結構的計量目標及方法是由F·約埃爾;M·吉諾烏克;A·斯維澤爾;V·萊溫斯基;I·塔爾西斯-沙皮爾設計研發完成，并于2018-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本具有傾斜周期性結構的計量目標及方法在說明書摘要公布了：本發明揭示計量目標、其設計方法及測量方法，所述目標具備相對于光刻工具的正交產生軸X及Y傾斜的周期性結構，從而實現具有對角線傾斜obliquetilted元件的裝置例如DRAM裝置的更準確疊加測量。一或多個傾斜周期性結構可用于提供關于一或多個層的一維或二維信號，從而可能提供針對應用到一個層的多個步驟的疊加測量。所述傾斜周期性結構可用于修改當前計量目標設計例如，成像目標及或散射測量目標或設計新的目標，且可分別調整測量算法以從所述傾斜周期性結構導出信號及或提供其預處理圖像。所揭示的目標是過程兼容的且更準確地反映關于各種過程步驟的裝置疊加。

本發明授權具有傾斜周期性結構的計量目標及方法在權利要求書中公布了：1.一種計量目標，其包括多個周期性結構，其中所述多個周期性結構中的每一者包括具有長尺寸和短尺寸的重復性元件，所述周期性結構的第一者和所述周期性結構的第二者中的一者經設置為所述計量目標的內部周期性結構，且所述周期性結構的所述第一者和所述周期性結構的所述第二者中的另一者經設置為所述計量目標的外部周期性結構，其中所述外部周期性結構相對于所述內部周期性結構傾斜；其中第一方向上的所述外部周期性結構不平行于第二方向上的所述外部周期性結構，所述第一方向上的所述內部周期性結構正交于所述第二方向上的所述內部周期性結構，且所述第一方向不平行于所述第二方向；其中所述外部周期性結構相對于軸X及Y傾斜且沿著所述第一方向和所述第二方向是周期性的，且所述多個周期性結構中的至少兩者并排放置；且其中不同的外部周期性結構設置在同一層。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人科磊股份有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。