恭喜信越化學工業株式會社濱田裕一獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜信越化學工業株式會社申請的專利蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN110347013B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201910257416.4，技術領域涉及：G03F1/64；該發明授權蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法是由濱田裕一設計研發完成，并于2019-04-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法在說明書摘要公布了：本發明涉及蒙版框架及其制備方法、以及蒙版，所述蒙版框架具備：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度為2.0~7.5μm的黑色的陽極氧化被膜、和在上述陽極氧化被膜上形成的透明的聚合物電沉積涂膜，所述蒙版具備：該蒙版框架、和在上述蒙版框架的一個端面設置的蒙版膜。
本發明授權蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法在權利要求書中公布了：1.蒙版框架，其具備：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度為2.0μm以上且小于5.0μm的陽極氧化被膜、和在上述陽極氧化被膜上形成的透明的聚合物電沉積涂膜，上述涂膜的可見光透過率超過50％，上述陽極氧化被膜的L值為35以下，L值為將黑體計為0，將相反的白色計為100時表示顏色的亮度的指標，該黑體是指吸收入射至其表面的所有的波長，既不反射也不透過的理想的物體，上述陽極氧化被膜中包含硫酸根離子，上述陽極氧化被膜為硫酸耐酸鋁。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人信越化學工業株式會社，其通訊地址為：日本東京都千代田區大手町2丁目6番1號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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