恭喜信越化學(xué)工業(yè)株式會社濱田裕一獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜信越化學(xué)工業(yè)株式會社申請的專利蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN110347013B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201910257416.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/64；該發(fā)明授權(quán)蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法是由濱田裕一設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-04-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及蒙版框架及其制備方法、以及蒙版，所述蒙版框架具備：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度為2.0~7.5μm的黑色的陽極氧化被膜、和在上述陽極氧化被膜上形成的透明的聚合物電沉積涂膜，所述蒙版具備：該蒙版框架、和在上述蒙版框架的一個端面設(shè)置的蒙版膜。
本發(fā)明授權(quán)蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.蒙版框架，其具備：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度為2.0μm以上且小于5.0μm的陽極氧化被膜、和在上述陽極氧化被膜上形成的透明的聚合物電沉積涂膜，上述涂膜的可見光透過率超過50％，上述陽極氧化被膜的L值為35以下，L值為將黑體計為0，將相反的白色計為100時表示顏色的亮度的指標(biāo)，該黑體是指吸收入射至其表面的所有的波長，既不反射也不透過的理想的物體，上述陽極氧化被膜中包含硫酸根離子，上述陽極氧化被膜為硫酸耐酸鋁。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人信越化學(xué)工業(yè)株式會社，其通訊地址為：日本東京都千代田區(qū)大手町2丁目6番1號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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