恭喜東京毅力科創株式會社今真人獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利邊緣環、等離子體處理裝置和邊緣環的制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112420471B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010810448.5，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權邊緣環、等離子體處理裝置和邊緣環的制造方法是由今真人設計研發完成，并于2020-08-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本邊緣環、等離子體處理裝置和邊緣環的制造方法在說明書摘要公布了：本發明提供邊緣環、等離子體處理裝置和邊緣環的制造方法。本發明的邊緣環在等離子體處理裝置的處理容器的內部包圍載置于載置臺的基片的周圍，該邊緣環包括：第一部件，其具有能夠與在上述處理容器的內部生成的等離子體接觸的接觸面，并且由第一材料形成；和第二部件，其設置在上述第一部件的與上述接觸面相反的一側，并且由與第一材料不同的第二材料形成，上述第一材料的楊氏模量比上述第二材料高。本發明能夠抑制邊緣環的消耗，并且減輕傳熱氣體從邊緣環與靜電吸盤之間泄漏的狀況。
本發明授權邊緣環、等離子體處理裝置和邊緣環的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種邊緣環，其在等離子體處理裝置的處理容器的內部包圍在載置于載置臺的基片的周圍，所述邊緣環的特征在于，包括：第一邊緣環，其上表面為能夠與在所述處理容器的內部生成的等離子體接觸的接觸面，并且由碳化硅形成為一體；和第二邊緣環，其上表面接合于所述第一邊緣環的與所述接觸面相反的一側，且下表面與靜電吸盤接觸，并且由硅形成，所述第二邊緣環在周向上被分割為多個構件，在多個所述構件各自之間以相鄰的所述構件之間在周向上具有預先設定的距離方式形成槽，所述槽在縱剖視時由所述第二邊緣環的相鄰的所述構件的側面和作為頂面的所述第一邊緣環的底面構成。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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