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恭喜卡爾蔡司SMT有限責任公司A.溫克勒獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜卡爾蔡司SMT有限責任公司申請的專利測試干涉儀的衍射光學元件獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114502914B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080068030.X,技術領域涉及:G01B11/06;該發明授權測試干涉儀的衍射光學元件是由A.溫克勒;M.謝德;H.M.斯蒂潘;J.赫茨勒;F.埃澤特設計研發完成,并于2020-08-13向國家知識產權局提交的專利申請。

測試干涉儀的衍射光學元件在說明書摘要公布了:本發明涉及一種用于測量光學表面102的形狀的測試干涉儀100的衍射光學元件10,其包括:衍射形狀測量結構16,其布置在衍射光學元件的使用表面14上并且被配置為當衍射光學元件布置在測試干涉儀中時生成用于照射待測量的光學表面的測試波122;以及至少一個測試場18,被配置為用于測量定位在測試場內的測試結構的多個輪廓性質,輪廓性質表征相對于使用表面橫向延伸的測試結構的輪廓并且包括測試結構的輪廓的側翼角、測試結構的輪廓深度、和在測試結構的溝槽形狀的輪廓的基部區域中出現的微溝槽的深度。測試場布置在使用表面的一個位置處而不是衍射形狀測量結構,使得測試場由多個衍射形狀測量結構圍繞。

本發明授權測試干涉儀的衍射光學元件在權利要求書中公布了:1.一種用于測量光學表面的形狀的測試干涉儀的衍射光學元件,包括:-衍射形狀測量結構,布置在所述衍射光學元件的使用表面上,并且被配置為在所述衍射光學元件布置在所述測試干涉儀中時生成用于照射待測量的光學表面的測試波,以及-至少一個測試場,被配置為用于測量包含在所述測試場中的測試結構的多個輪廓性質,其中,所述輪廓性質表征相對于所述使用表面橫向延伸的所述測試結構的輪廓線并且包括所述測試結構的輪廓線的側翼角、所述測試結構的輪廓深度、和在所述測試結構的溝槽形狀的輪廓的底部區域中出現的微溝槽的深度,并且其中,所述測試場布置在所述使用表面的一個位置處,而不是所述衍射形狀測量結構,使得所述測試場由多個所述衍射形狀測量結構圍繞。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人卡爾蔡司SMT有限責任公司,其通訊地址為:德國上科亨;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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