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龍圖騰網(wǎng)恭喜SK納力世有限公司申請的專利防止發(fā)生褶皺的銅箔、包括該銅箔的電極、包括該電極的二次電池以及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113924669B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080041738.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01M4/66；該發(fā)明授權(quán)防止發(fā)生褶皺的銅箔、包括該銅箔的電極、包括該電極的二次電池以及其制造方法是由金善花;李顏娜;金昇玟設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-11-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本防止發(fā)生褶皺的銅箔、包括該銅箔的電極、包括該電極的二次電池以及其制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明的一實施例提供一種銅箔，包括：銅層，具有毛面和光面；以及防銹膜，配置在所述銅層上，所述銅箔以絕對值為基準(zhǔn)具有0.5至25Mpa的殘余應(yīng)力residualstress，所述銅層包含銅和碳C，在所述銅層中，所述碳C的含量為2至20ppm，所述銅層具有包含結(jié)晶質(zhì)crystalline粒子的111面、200面、220面以及311面，所述220面的衍射強(qiáng)度在所述111面、所述200面、所述220面以及所述311面的衍射強(qiáng)度之和中所占的比率為10至40％，在常溫所述220面的所述結(jié)晶質(zhì)粒子具有70至120nm的平均粒子尺寸。

本發(fā)明授權(quán)防止發(fā)生褶皺的銅箔、包括該銅箔的電極、包括該電極的二次電池以及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種銅箔，其中，包括：銅層，具有毛面和光面；以及防銹膜，配置在所述銅層上，所述銅箔以絕對值為基準(zhǔn)具有0.5至25Mpa的殘余應(yīng)力，所述銅層包含銅和碳C，在所述銅層中，所述碳C的含量為2至20ppm，所述銅層具有包含結(jié)晶質(zhì)粒子的111面、200面、220面以及311面，所述220面的衍射強(qiáng)度在所述111面、所述200面、所述220面以及所述311面的衍射強(qiáng)度之和中所占的比率為10至40％，在常溫所述220面的所述結(jié)晶質(zhì)粒子具有70至120nm的平均粒子尺寸，具有所述毛面方向的第一面和所述光面方向的第二面，所述第一面和所述第二面的表面粗糙度Ra分別為0.98至1.23μm，所述220面的衍射強(qiáng)度是在30°至95°的衍射角2θ范圍內(nèi)通過X射線衍射法XRD獲得具有與n個晶面相對應(yīng)的峰的XRD譜圖，從該XRD譜圖求得各個晶面hkl的XRD衍射強(qiáng)度[Ihkl]，在所述X射線衍射法中，靶材為銅Kα1，2θ間距為0.01°，2θ掃描速度為3°min，所述n為4。

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