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龍圖騰網(wǎng)恭喜廈門黑元科技有限公司申請的專利一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用模塊化化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115522182B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210275329.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/458；該發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用模塊化化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器是由黃特偉設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-03-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用模塊化化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用模塊化化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器，包括底座，所述底座的底部固定安裝有氣缸，所述底座的頂部固定安裝有對稱設(shè)置的兩個(gè)中空滑桿，兩個(gè)所述中空滑桿的頂部固定安裝有同一個(gè)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱，所述化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱的底部開設(shè)有槽孔，兩個(gè)所述中空滑桿上滑動(dòng)套裝有同一個(gè)升降臺。本發(fā)明不僅能夠?qū)Σ煌瑢挾鹊男酒M(jìn)行夾緊固定，滿足了不同寬度芯片的化學(xué)氣相沉積反應(yīng)需求，適用范圍廣，同時(shí)能夠在完成化學(xué)氣相沉積反應(yīng)后對尾氣管道內(nèi)壁上的凝結(jié)物進(jìn)行自動(dòng)刮除，無需人工后續(xù)進(jìn)行清理，保證了尾氣管道的使用效果，使用方便，還能夠有效的避免凝結(jié)物堆積過多影響尾氣管道的使用，提高了工作效率。

本發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用模塊化化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)用模塊化化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器，包括底座1，其特征在于，所述底座1的底部固定安裝有氣缸2，所述底座1的頂部固定安裝有對稱設(shè)置的兩個(gè)中空滑桿4，兩個(gè)所述中空滑桿4的頂部固定安裝有同一個(gè)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱5，所述化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱5的底部開設(shè)有槽孔30，兩個(gè)所述中空滑桿4上滑動(dòng)套裝有同一個(gè)升降臺3，所述氣缸2的伸縮端貫穿底座1的底部并固定連接在升降臺3的底部上，所述升降臺3的頂部設(shè)置有用于固定芯片的夾緊機(jī)構(gòu)，所述升降臺3的外側(cè)壁上固定安裝有磁塊7，其一所述中空滑桿4的內(nèi)部設(shè)置有與其內(nèi)壁滑動(dòng)連接且與磁塊7磁性連接的磁性滑塞29，所述化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱5上設(shè)置有與其連通的尾氣管道12，所述尾氣管道12上貫穿設(shè)置有與其轉(zhuǎn)動(dòng)連接的轉(zhuǎn)軸23，所述化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱5的外側(cè)壁上固定安裝有“L”形固定板10，所述“L”形固定板10的豎直端側(cè)壁上設(shè)置有尾氣處理箱11，所述尾氣管道12遠(yuǎn)離化學(xué)氣相沉積反應(yīng)箱5的一端與尾氣處理箱11連通，所述“L”形固定板10水平端的頂部固定安左右對稱設(shè)置的兩個(gè)固定板13，所述尾氣管道12位于兩個(gè)固定板13之間，其一所述固定板13上貫穿設(shè)置有中空輔助筒8，所述中空輔助筒8內(nèi)設(shè)置有與轉(zhuǎn)軸23且用于刮除尾氣管道12內(nèi)壁凝結(jié)物的清理機(jī)構(gòu)，其一所述固定板13的外側(cè)壁上固定安裝有過渡筒14，兩個(gè)所述固定板13之間設(shè)置有與過渡筒14連接的且用于將刮除下來的凝結(jié)物排出尾氣管道12的過渡抽吸機(jī)構(gòu)。

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