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龍圖騰網恭喜深圳優普萊等離子體技術有限公司申請的專利一種激光切割系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115279539B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202280002613.1，技術領域涉及：B23K26/38；該發明授權一種激光切割系統是由全峰;蔣禮設計研發完成，并于2022-06-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種激光切割系統在說明書摘要公布了：本發明實施例提供了一種激光切割系統，用于在切割材料時，使得待切割材料的切割厚度薄，切割損耗低，且不存在切割造成的斜角。本發明實施例中激光切割系統包括：激光器，時間壓縮和空間色散系統，以及激光聚焦系統；激光器用于提供入射光束，時間壓縮和空間色散系統，包括第一光柵和相互垂直設置的第一反射鏡和第二反射鏡，或兩個平行設置的且光柵參數相同的第二光柵和第三光柵；其中，時間壓縮和空間色散系統用于對入射光束進行空間色散，以得到在空間上分開的第一光譜，對第一光譜進行準直，以得到準直后的平行光譜；激光聚焦系統，用于將平行光譜聚焦，并將光束聚焦至樣品下表面預設深度的待切割處。

本發明授權一種激光切割系統在權利要求書中公布了：1.一種激光切割系統，其特征在于，包括：激光器，時間壓縮和空間色散系統，以及激光聚焦系統；其中，所述激光器用于提供入射光束，所述激光器的譜寬不小于1nm，且所述激光器具有可調節的正色散；所述時間壓縮和空間色散系統，包括第一光柵和相互垂直設置的第一反射鏡和第二反射鏡，所述激光器的正色散量用于補償所述第一光柵造成的負色散量，其中，所述時間壓縮和空間色散系統用于對所述入射光束進行空間色散，以得到在空間上分開的第一光譜，對所述第一光譜進行準直，以得到準直后的平行光譜；所述激光聚焦系統，用于將所述平行光譜進行聚焦，并將聚焦后的光斑垂直入射至樣品下表面預設深度的待切割處，其中預設深度決定切割的厚度，所述激光聚焦系統的數值孔徑不小于0.25；所述第一光柵為透射光柵或反射光柵；所述時間壓縮和空間色散系統還包括：軸位移平臺，所述軸位移平臺與相互垂直設置的第一反射鏡和第二反射鏡相互連接；調節所述軸位移平臺，以調節第一光譜的光線在所述第一光柵和相互垂直設置的第一反射鏡和第二反射鏡之間的光程，以用于補償所述激光聚焦系統對所述平行光譜造成的時間色散。

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