恭喜昆山國顯光電有限公司臧公正獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜昆山國顯光電有限公司申請的專利掩膜單元及掩膜板的制作方法和掩膜板獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116011211B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211711695.5,技術領域涉及:G06F30/20;該發明授權掩膜單元及掩膜板的制作方法和掩膜板是由臧公正;李文星;李偉麗設計研發完成,并于2022-12-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本掩膜單元及掩膜板的制作方法和掩膜板在說明書摘要公布了:本發明提供一種掩膜單元及掩膜板的制作方法和掩膜板,所述掩膜單元的制作方法包括:對掩膜單元的張網拉伸過程進行模擬仿真,獲得掩膜單元的變形數據;其中,掩膜單元包括沿張網拉伸的拉伸方向分布的標準點位和多個行組,變形數據包括標準點位的第一變形數據;根據變形數據確定待補償的行組,對待補償的行組進行補償,補償的過程包括:基于第一變形數據對待補償的行組進行補償,以使補償后的行組經張網拉伸后位于掩膜單元的預設位置,得到補償后的掩膜單元。本發明能夠提高采用上述掩膜單元蒸鍍的膜層的位置精度。
本發明授權掩膜單元及掩膜板的制作方法和掩膜板在權利要求書中公布了:1.一種掩膜單元的制作方法,其特征在于,包括:對掩膜單元的張網拉伸過程進行模擬仿真,獲得所述掩膜單元的變形數據;其中,所述掩膜單元包括沿所述張網拉伸的拉伸方向分布的標準點位和多個行組,每一所述行組包括沿第二方向分布的多個開口,所述第二方向垂直于所述拉伸方向;所述變形數據包括所述標準點位的第一變形數據;所述標準點位的數量為兩個,兩個所述標準點位分別位于所述掩膜單元的相對兩側;根據兩個所述標準點位的變形數據確定所述掩膜單元兩側待補償的行組,對所述待補償的行組進行補償,所述補償的過程包括:基于所述第一變形數據對所述待補償的行組進行補償,以使補償后的所述行組經所述張網拉伸后位于所述掩膜單元的預設位置,得到補償后的掩膜單元;所述基于所述第一變形數據對所述待補償的行組進行補償,包括:基于所述待補償的行組與所述標準點位至同一基準線在所述拉伸方向上的距離和所述第一變形數據,對所述待補償的行組進行補償。
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