恭喜ASML荷蘭有限公司任偉明獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利多個帶電粒子束的設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114420523B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210041735.3，技術領域涉及：H01J37/145；該發明授權多個帶電粒子束的設備是由任偉明;劉學東;胡學讓;陳仲瑋設計研發完成，并于2016-11-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本多個帶電粒子束的設備在說明書摘要公布了：披露了多個帶電粒子束的設備。提出了一種多束設備中的二次投影成像系統，該二次投影成像系統使二次電子檢測具有高收集效率和低串擾。該系統采用一個變焦透鏡，一個投影透鏡和一個防掃描偏轉單元。變焦透鏡和投影透鏡分別執行變焦功能和防旋轉功能，以相對于多個一次細束的著陸能量和或電流保持總成像放大倍率和總圖像旋轉。防掃描偏轉單元執行防掃描功能以消除由于多個一次細束的偏轉掃描而導致的動態圖像移位。
本發明授權多個帶電粒子束的設備在權利要求書中公布了：1.一種多束成像系統，包括：磁透鏡，其被配置成調節所述多束成像系統的多個帶電粒子二次束的旋轉，以使得能夠實現由相對應的多個檢測元件檢測所述多個帶電粒子二次束，其中，所述磁透鏡被配置成產生第二旋轉，所述第二旋轉減少由所述多束成像系統的另一部件所產生的第一旋轉；以及其中，所述另一部件包括物鏡，所述物鏡被配置成將多個帶電粒子細束聚焦到樣品表面上。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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