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龍圖騰網(wǎng)恭喜應(yīng)用材料公司申請(qǐng)的專(zhuān)利燈頭中的多分區(qū)燈控制和單獨(dú)燈控制獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN110797283B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：201910711874.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)燈頭中的多分區(qū)燈控制和單獨(dú)燈控制是由黃奕樵;埃羅爾·安東尼奧·C·桑切斯設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-08-02向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本燈頭中的多分區(qū)燈控制和單獨(dú)燈控制在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：描述了一種用于處理半導(dǎo)體基板的方法和設(shè)備。公開(kāi)了一種基板處理設(shè)備，包括：處理腔室；基板支撐件，所述基板支撐件設(shè)置在所述處理腔室內(nèi)；多個(gè)燈，所述多個(gè)燈布置在燈頭中并靠近所述基板支撐件而定位；氣源，所述氣源用于在跨越所述基板支撐件的側(cè)向流動(dòng)路徑中提供凈化氣體；以及控制器，所述控制器基于所述流動(dòng)路徑的方向而差分地調(diào)整提供到所述多個(gè)燈中的單獨(dú)燈的功率。

本發(fā)明授權(quán)燈頭中的多分區(qū)燈控制和單獨(dú)燈控制在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種基板處理設(shè)備，包括：處理腔室；基板支撐件，所述基板支撐件設(shè)置在所述處理腔室內(nèi)；多個(gè)燈，所述多個(gè)燈布置在燈頭中并靠近所述基板支撐件而定位；氣源，所述氣源用于在跨越所述基板支撐件的側(cè)向流動(dòng)路徑中提供凈化氣體，所述流動(dòng)路徑限定所述基板支撐件的前緣和后緣；以及控制器，所述控制器在基板被放置在所述基板支撐件之前基于所述流動(dòng)路徑的方向而差分地調(diào)整提供到所述多個(gè)燈中的單獨(dú)燈的功率，使得對(duì)于所述多個(gè)燈中的在對(duì)應(yīng)于所述基板支撐件的周邊的外部分區(qū)的燈，位于所述基板支撐件的所述前緣處的燈或者位于所述基板支撐件的所述前緣和所述后緣處的燈被提供大于所述外部分區(qū)中的其它燈的功率，從而將所述基板支撐件的所述前緣或所述前緣和后緣加熱到大于所述基板支撐件的所述周邊的其它部分的溫度。

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