恭喜華海清科股份有限公司曹自立獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜華海清科股份有限公司申請的專利一種晶圓后處理裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115148623B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111671422.8，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權一種晶圓后處理裝置是由曹自立;李燈;高慶剛;李長坤;趙德文設計研發完成，并于2021-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種晶圓后處理裝置在說明書摘要公布了：本發明公開了一種晶圓后處理裝置，其包括：驅動機構，其豎直夾持晶圓并帶動晶圓旋轉；供給臂，其在晶圓的側面擺動并經由其上的噴嘴將液體供應至晶圓表面；擋圈，其設置于所述驅動機構的外周側；所述擋圈配置有導流槽，其沿擋圈輪廓的邊沿設置，所述導流槽將自晶圓甩出的流體積聚并導引至擋圈的下部。
本發明授權一種晶圓后處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種晶圓后處理裝置，其特征在于，包括：驅動機構，其豎直夾持晶圓并帶動晶圓旋轉；供給臂，其在晶圓的側面擺動并經由其上的噴嘴將液體供應至晶圓表面；擋圈，其設置于所述驅動機構的外周側；所述擋圈配置有導流槽，其沿擋圈輪廓的邊沿設置，所述導流槽將自晶圓甩出的流體積聚并導引至擋圈的下部；所述擋圈為環狀結構，其邊沿朝向擋圈的中心延伸設置；所述導流槽設置于擋圈邊沿的內側面和外端面，所述邊沿的內側面配置有多個導流槽，導流槽沿擋圈的徑向間隔設置；靠近擋圈中心的導流槽的寬度小于遠離擋圈中心的導流槽的寬度；內側面和外端面的導流槽的寬度、深度不相同。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華海清科股份有限公司，其通訊地址為：300350 天津市津南區咸水沽海河科技園聚興道11號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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