恭喜中國科學(xué)院力學(xué)研究所李帥輝獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國科學(xué)院力學(xué)研究所申請的專利一種基于光路解耦的光譜儀的設(shè)計方法以及光譜儀獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN117949090B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202410058031.6,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01J3/28;該發(fā)明授權(quán)一種基于光路解耦的光譜儀的設(shè)計方法以及光譜儀是由李帥輝;陳豪設(shè)計研發(fā)完成,并于2024-01-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本一種基于光路解耦的光譜儀的設(shè)計方法以及光譜儀在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種基于光路解耦的光譜儀設(shè)計方法,包括:光譜儀構(gòu)建;光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建;電子學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建;耦合裝調(diào);還公開了一種光譜儀,包括光學(xué)系統(tǒng),以及設(shè)置在光學(xué)系統(tǒng)上的框架結(jié)構(gòu),在框架結(jié)構(gòu)上可拆裝地安裝有電子學(xué)系統(tǒng),且電子學(xué)系統(tǒng)與光學(xué)系統(tǒng)耦合;在框架結(jié)構(gòu)和電子學(xué)系統(tǒng)之間設(shè)置有墊片,墊片根據(jù)設(shè)計調(diào)整厚度,固定光學(xué)系統(tǒng)和電子學(xué)系統(tǒng)之間的連接間距,確保光學(xué)系統(tǒng)的焦平面與電子學(xué)系統(tǒng)的感光平面重合。本發(fā)明將光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)和電子學(xué)系統(tǒng)解耦并獨立設(shè)計,以光電耦合的方式進行裝配,使光學(xué)系統(tǒng)和電子學(xué)系統(tǒng)能夠獨立開發(fā)調(diào)試生產(chǎn),并將調(diào)試生產(chǎn)的光學(xué)系統(tǒng)和電子學(xué)系統(tǒng)耦合裝調(diào),簡化了開發(fā)步驟,提高了生產(chǎn)效率。
本發(fā)明授權(quán)一種基于光路解耦的光譜儀的設(shè)計方法以及光譜儀在權(quán)利要求書中公布了:1.一種基于光路解耦的光譜儀的設(shè)計方法,其特征在于,包括:S1、光譜儀構(gòu)建:構(gòu)建光學(xué)系統(tǒng)、電子學(xué)系統(tǒng)以及確定所述光學(xué)系統(tǒng)和所述電子學(xué)系統(tǒng)安裝間距的墊片,所述光學(xué)系統(tǒng)和所述電子學(xué)系統(tǒng)通過拆裝完成解耦和耦合;S2、光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建:所述光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建包括框架結(jié)構(gòu)以及與框架結(jié)構(gòu)連接安裝的光學(xué)組件,構(gòu)建的所述光學(xué)系統(tǒng)能夠使所述光學(xué)組件在所述框架結(jié)構(gòu)附近形成焦平面;S3、電子學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建:所述電子學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建包括探測器組件和電路組件,所述探測器組件與所述電路組件電連接,所述探測器組件在其表面形成感光平面;S4、耦合裝調(diào):所述光學(xué)系統(tǒng)和所述電子學(xué)系統(tǒng)通過所述墊片連接安裝,并通過調(diào)整墊片的厚度,改變所述焦平面與所述感光平面的距離,使所述焦平面與所述感光平面重合,即所述光學(xué)系統(tǒng)和所述電子學(xué)系統(tǒng)耦合;其中,在步驟S2和步驟S3中,所述光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建和所述電子學(xué)系統(tǒng)構(gòu)建相互獨立進行;在步驟S4中,所述墊片厚度的調(diào)整方法包括:a、將可形變的橡膠圈安裝在所述框架結(jié)構(gòu)和所述探測器組件之間,調(diào)整所述框架結(jié)構(gòu)和所述探測器組件之間的距離,使所述電子學(xué)系統(tǒng)通過所述探測器組件檢測的空間分辨率和光譜分辨率達(dá)到最優(yōu);b、通過塞尺測量所述框架結(jié)構(gòu)和所述探測器組件之間的間距,確定所述墊片的加工厚度,并對所述墊片進行加工;c、將加工完成的所述墊片替換橡膠圈,安裝在所述框架結(jié)構(gòu)和所述探測器組件之間,測試成像效果,根據(jù)成像效果確定所述墊片厚度的再次微調(diào)加工程度,并進行多次測試調(diào)整加工;d、當(dāng)所述墊片經(jīng)多次調(diào)整加工后,所述電子學(xué)系統(tǒng)的成像效果達(dá)到最佳,此時所述光學(xué)系統(tǒng)的焦平面與所述電子學(xué)系統(tǒng)的感光平面重合,即完成所述光學(xué)系統(tǒng)和所述電子學(xué)系統(tǒng)的耦合裝調(diào)。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人中國科學(xué)院力學(xué)研究所,其通訊地址為:100190 北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路15號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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