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龍圖騰網(wǎng)恭喜中機半導體材料(深圳)有限公司申請的專利應用于半導體襯底的前處理液及其制備方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN119060692B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-04-04發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202411555928.6，技術領域涉及：C09K3/14；該發(fā)明授權應用于半導體襯底的前處理液及其制備方法是由魏曉龍;陳斌;劉胥冠;陳冬莉;趙慶振設計研發(fā)完成，并于2024-11-04向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本應用于半導體襯底的前處理液及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提出了一種應用于半導體襯底的前處理液及其制備方法，其中，應用于半導體襯底的前處理液包括：納米金剛石磨料、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑、懸浮劑以及極性溶劑，納米金剛石磨料設有表面層，表面層包括導電性親水涂層，按照重量百分比計算，納米金剛石磨料占0.1~2%，分散劑占1~5%，pH調(diào)節(jié)劑占0.5~2%，懸浮劑為0.5~3%，余量為極性溶劑。納米金剛石顆粒的導電性親水涂層，在納米顆粒表面形成導電性涂層，提升磨削過程中的導電性，減少靜電積聚。特別是在高速精磨過程中，減少靜電可以防止顆粒團聚，并提升磨削精度和穩(wěn)定性。導電性親水涂層還使顆粒具有更好的親水性，提高其在溶液中的分散性和穩(wěn)定性。

本發(fā)明授權應用于半導體襯底的前處理液及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種應用于半導體襯底的前處理液，其特征在于，包括：納米金剛石磨料、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑、懸浮劑以及極性溶劑，所述納米金剛石磨料設有表面層，所述表面層包括導電性親水涂層和設于所述導電性親水涂層表面的抗靜電親水涂層，按照重量百分比計算，所述納米金剛石磨料占0.1~2%，所述分散劑占1~5%，所述pH調(diào)節(jié)劑占0.5~2%，所述懸浮劑為0.5~3%，余量為所述極性溶劑；所述前處理液的制備方法包括：S1、對納米金剛石原料進行預處理，得到納米金剛石磨料；步驟S1包括：S1.1、對納米金剛石原料置于等離子體腔體內(nèi)，抽真空后通入氧氣并啟動等離子體激發(fā)源進行活化處理；S1.2、將活化處理完成后的所述納米金剛石原料轉(zhuǎn)移到酸洗溶液中，再依次經(jīng)過洗滌、過濾、干燥，得到表面改性納米金剛石顆粒；S1.3、將所述表面改性納米金剛石顆粒轉(zhuǎn)移到導電性親水涂層溶液中，加熱攪拌后再進行沉積提拉工藝，經(jīng)過干燥熱固化后，得到帶有導電性親水涂層的納米金剛石磨料；S1.4、將帶有導電性親水涂層的納米金剛石磨料轉(zhuǎn)移到耦合劑溶液中，依次經(jīng)過攪拌、過濾、干燥；S1.5、再將干燥后的納米金剛石磨料轉(zhuǎn)移到靜電駐極設備中，進行靜電駐極工藝，駐極完成后緩慢降壓和降溫，得到表面帶有電荷的納米金剛石磨料；S1.6、將表面帶有電荷的納米金剛石磨料轉(zhuǎn)移到抗靜電親水涂層溶液中，加熱攪拌后再進行沉積提拉工藝，經(jīng)過熱固化后，得到帶有所述表面層的納米金剛石磨料；S2、將所述納米金剛石磨料分次添加至含有分散劑和pH調(diào)節(jié)劑的極性溶劑中，得到混合液；S3、所述混合液中加入懸浮劑，進行超聲分散，得到前處理液。

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