恭喜悟勞茂材料公司李炳一獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜悟勞茂材料公司申請的專利掩模支撐模板及其制造方法與框架一體型掩模的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN112740437B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-10發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201980062037.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10K71/00；該發(fā)明授權(quán)掩模支撐模板及其制造方法與框架一體型掩模的制造方法是由李炳一;張澤龍;李永浩;金奉辰設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-10-07向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本
本發(fā)明授權(quán)掩模支撐模板及其制造方法與框架一體型掩模的制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種掩模支撐模板的制造方法，該掩模支撐模板用于粘合并支撐OLED像素形成用掩模并將其移送至框架，在使掩模與框架對應(yīng)地附著后，從掩模分離模板，其中，該方法包括以下步驟：a準(zhǔn)備掩模金屬膜；b將掩模金屬膜粘合到一面形成有臨時粘合部的模板上；c縮減模板上粘合的掩模金屬膜的厚度；以及d通過在掩模金屬膜上形成掩模圖案來制造掩模，所述步驟d包括以下步驟：d1在掩模金屬膜上形成圖案化的絕緣部；d2通過對絕緣部之間露出的掩模金屬膜部分進(jìn)行蝕刻來形成掩模圖案；以及d3去除絕緣部。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人悟勞茂材料公司，其通訊地址為：韓國京畿道；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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