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龍圖騰網(wǎng)恭喜浙江創(chuàng)芯集成電路有限公司申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119092550B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411570559.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D30/65；該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法是由王爽;許凱;吳永玉;高大為設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-11-06向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法，其中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法包括：形成基底；在所述基底的內(nèi)部形成漂移區(qū)；在所述漂移區(qū)內(nèi)形成體區(qū)，所述體區(qū)與所述漂移區(qū)的摻雜類型不同；在所述體區(qū)內(nèi)形成側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)；在所述體區(qū)內(nèi)形成源區(qū)，所述源區(qū)與所述側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)鄰接，且位于所述側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)鄰近所述漂移區(qū)的一側(cè)，其中，所述源區(qū)底面的深度小于所述側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)底面的深度；在所述漂移區(qū)內(nèi)形成漏區(qū)。采用上述技術(shù)方案，能夠在源區(qū)下方形成導(dǎo)通溝道。

本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法，其特征在于，包括：形成基底，其中，形成所述基底包括：提供第一基底；在所述第一基底內(nèi)形成底部柵極結(jié)構(gòu)的底部柵極材料層；形成所述底部柵極結(jié)構(gòu)的底部柵介質(zhì)層，所述底部柵介質(zhì)層覆蓋所述底部柵極材料層；形成第二基底，所述第二基底覆蓋所述底部柵介質(zhì)層；在所述基底的內(nèi)部形成漂移區(qū)；在所述漂移區(qū)內(nèi)形成體區(qū)，所述體區(qū)與所述漂移區(qū)的摻雜類型不同，其中，所述漂移區(qū)和所述體區(qū)位于所述第二基底內(nèi)；在所述體區(qū)內(nèi)形成側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)；在所述體區(qū)內(nèi)形成源區(qū)，所述源區(qū)與所述側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)鄰接，且位于所述側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)鄰近所述漂移區(qū)的一側(cè)，其中，所述源區(qū)底面的深度小于所述側(cè)部柵極結(jié)構(gòu)底面的深度；在所述漂移區(qū)內(nèi)形成漏區(qū)；其中，在所述體區(qū)內(nèi)形成所述源區(qū)之前，所述方法還包括：在所述第二基底表面形成插塞孔，所述插塞孔與所述漂移區(qū)間隔設(shè)置且暴露出所述底部柵極材料層的表面；對(duì)所述插塞孔進(jìn)行填充得到所述底部柵極結(jié)構(gòu)的底部柵極插塞。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人浙江創(chuàng)芯集成電路有限公司，其通訊地址為：311200 浙江省杭州市蕭山區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)建設(shè)三路733號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。