恭喜英諾賽科(蘇州)半導(dǎo)體有限公司宋亮獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜英諾賽科(蘇州)半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)的專利一種氮化鎵器件以及制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN119384004B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202411959346.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D30/47;該發(fā)明授權(quán)一種氮化鎵器件以及制備方法是由宋亮;陳扶;趙杰設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2024-12-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種氮化鎵器件以及制備方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明公開(kāi)了一種氮化鎵器件以及制備方法。該氮化鎵器件包括:襯底、溝道層和復(fù)合勢(shì)壘層,復(fù)合勢(shì)壘層包括第一勢(shì)壘層、第二勢(shì)壘層、第三勢(shì)壘層和第四勢(shì)壘層;第一勢(shì)壘層位于溝道層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè);第二勢(shì)壘層位于第一勢(shì)壘層遠(yuǎn)離溝道層的一側(cè);第二勢(shì)壘層的共價(jià)鍵的鍵能大于第一勢(shì)壘層的共價(jià)鍵的鍵能;第三勢(shì)壘層位于第二勢(shì)壘層遠(yuǎn)離第一勢(shì)壘層的一側(cè);第四勢(shì)壘層位于第二勢(shì)壘層遠(yuǎn)離第一勢(shì)壘層的一側(cè);或者,第四勢(shì)壘層位于第三勢(shì)壘層遠(yuǎn)離第二勢(shì)壘層的一側(cè)。上述技術(shù)方案提高了溝道層一側(cè)的勢(shì)壘層的表面質(zhì)量,降低了其界面缺陷,從而提升氮化鎵器件的電學(xué)性能。
本發(fā)明授權(quán)一種氮化鎵器件以及制備方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種氮化鎵器件,其特征在于,包括:襯底;溝道層,位于所述襯底的一側(cè);復(fù)合勢(shì)壘層,包括第一勢(shì)壘層、第二勢(shì)壘層、第三勢(shì)壘層和第四勢(shì)壘層;所述第一勢(shì)壘層位于所述溝道層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè);所述第二勢(shì)壘層位于所述第一勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述溝道層的一側(cè);所述第二勢(shì)壘層的共價(jià)鍵的鍵能大于所述第一勢(shì)壘層的共價(jià)鍵的鍵能;所述第三勢(shì)壘層位于所述第二勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述第一勢(shì)壘層的一側(cè);摻雜的Ⅲ-Ⅴ族半導(dǎo)體層,位于所述第三勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述第二勢(shì)壘層的一側(cè);柵極,位于所述摻雜的Ⅲ-Ⅴ族半導(dǎo)體層遠(yuǎn)離所述第三勢(shì)壘層的一側(cè);所述第三勢(shì)壘層在所述襯底的垂直投影面積等于所述摻雜的Ⅲ-Ⅴ族半導(dǎo)體層在所述襯底的垂直投影的面積的情況下,所述第四勢(shì)壘層位于所述第二勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述第一勢(shì)壘層的一側(cè);或者,所述第三勢(shì)壘層在所述襯底的垂直投影面積等于所述第二勢(shì)壘層在所述襯底的垂直投影的面積的情況下,所述第四勢(shì)壘層位于所述第三勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述第二勢(shì)壘層的一側(cè);源極,位于所述第四勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述溝道層的一側(cè);漏極,位于所述第四勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述溝道層的一側(cè)。
如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類(lèi)似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人英諾賽科(蘇州)半導(dǎo)體有限公司,其通訊地址為:215000 江蘇省蘇州市吳江區(qū)汾湖高新開(kāi)發(fā)區(qū)新黎路98號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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