恭喜重慶康佳光電科技有限公司蘇財鈺獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜重慶康佳光電科技有限公司申請的專利靜電吸盤裝置、干蝕刻設備及干蝕刻方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114023683B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111079897.8，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權靜電吸盤裝置、干蝕刻設備及干蝕刻方法是由蘇財鈺;伍凱義;楊然翔;喻兵;伍修頎設計研發完成，并于2021-09-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本靜電吸盤裝置、干蝕刻設備及干蝕刻方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種靜電吸盤裝置、干蝕刻設備及干蝕刻方法，靜電吸盤裝置包括基座、電介質層、電極電路及供電電路，電極電路包括多個獨立的正電極和負電極，多個正電極與多個負電極相互交錯分散并相互絕緣設置，供電電路包括與正電極連接的正電源供電子電路，及與負電極連接的負電源供電子電路，供電電路具有切換選擇功能，能實現單電極吸附與雙電極吸附的切換控制；基于靜電吸盤裝置中供電電路的切換選擇，既能吸附半導體基板，同時，基于靜電吸盤裝置的正電極與干蝕刻設備中電漿的負電荷之間的庫倫吸引力又能吸附非導體基板，實現了半導體基板與非導體基板的兼容吸附，提高了機臺的利用效率。
本發明授權靜電吸盤裝置、干蝕刻設備及干蝕刻方法在權利要求書中公布了：1.一種靜電吸盤裝置，其特征在于，應用于干蝕刻設備，所述干蝕刻設備包括蝕刻腔體，所述靜電吸盤裝置設置于所述蝕刻腔體的底部，所述靜電吸盤裝置包括：基座；電介質層，設置于所述基座上；以及電極電路，包括正電極子電路和負電極子電路，所述正電極子電路包括多個獨立的正電極，所述負電極子電路包括多個獨立的負電極，各所述正電極與各所述負電極分散于所述電介質層中；其中，在所述電介質層上放置的基板為半導體基板時，所述正電極子電路和所述負電極子電路均導通以實現雙電極吸附；在所述電介質層上放置的基板為非導體基板時，所述蝕刻腔體內產生電漿，所述正電極子電路導通且所述負電極子電路斷開以實現單電極吸附。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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