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龍圖騰網(wǎng)恭喜重慶康佳光電科技有限公司申請(qǐng)的專利靜電吸盤裝置、干蝕刻設(shè)備及干蝕刻方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114023683B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111079897.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/683；該發(fā)明授權(quán)靜電吸盤裝置、干蝕刻設(shè)備及干蝕刻方法是由蘇財(cái)鈺;伍凱義;楊然翔;喻兵;伍修頎設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-09-15向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本靜電吸盤裝置、干蝕刻設(shè)備及干蝕刻方法在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種靜電吸盤裝置、干蝕刻設(shè)備及干蝕刻方法，靜電吸盤裝置包括基座、電介質(zhì)層、電極電路及供電電路，電極電路包括多個(gè)獨(dú)立的正電極和負(fù)電極，多個(gè)正電極與多個(gè)負(fù)電極相互交錯(cuò)分散并相互絕緣設(shè)置，供電電路包括與正電極連接的正電源供電子電路，及與負(fù)電極連接的負(fù)電源供電子電路，供電電路具有切換選擇功能，能實(shí)現(xiàn)單電極吸附與雙電極吸附的切換控制；基于靜電吸盤裝置中供電電路的切換選擇，既能吸附半導(dǎo)體基板，同時(shí)，基于靜電吸盤裝置的正電極與干蝕刻設(shè)備中電漿的負(fù)電荷之間的庫(kù)倫吸引力又能吸附非導(dǎo)體基板，實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體基板與非導(dǎo)體基板的兼容吸附，提高了機(jī)臺(tái)的利用效率。

本發(fā)明授權(quán)靜電吸盤裝置、干蝕刻設(shè)備及干蝕刻方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種靜電吸盤裝置，其特征在于，應(yīng)用于干蝕刻設(shè)備，所述干蝕刻設(shè)備包括蝕刻腔體，所述靜電吸盤裝置設(shè)置于所述蝕刻腔體的底部，所述靜電吸盤裝置包括：基座；電介質(zhì)層，設(shè)置于所述基座上；以及電極電路，包括正電極子電路和負(fù)電極子電路，所述正電極子電路包括多個(gè)獨(dú)立的正電極，所述負(fù)電極子電路包括多個(gè)獨(dú)立的負(fù)電極，各所述正電極與各所述負(fù)電極分散于所述電介質(zhì)層中；其中，在所述電介質(zhì)層上放置的基板為半導(dǎo)體基板時(shí)，所述正電極子電路和所述負(fù)電極子電路均導(dǎo)通以實(shí)現(xiàn)雙電極吸附；在所述電介質(zhì)層上放置的基板為非導(dǎo)體基板時(shí)，所述蝕刻腔體內(nèi)產(chǎn)生電漿，所述正電極子電路導(dǎo)通且所述負(fù)電極子電路斷開以實(shí)現(xiàn)單電極吸附。

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