恭喜南京理工大學曹燕強獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜南京理工大學申請的專利一種清潔表面增強拉曼基底并實現可重復利用的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115852339B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211576925.1，技術領域涉及：C23C16/455；該發明授權一種清潔表面增強拉曼基底并實現可重復利用的方法是由曹燕強;王鑫鑫;程堂杰;丁倩倩;蔣立勇設計研發完成，并于2022-12-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種清潔表面增強拉曼基底并實現可重復利用的方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種清潔表面增強拉曼基底并實現可重復利用的方法，屬于分子識別和納米制備領域，可以清潔基底表面且不影響基底的SERS活性。本發明針對存在雜質以及探測分子的基底，使用原子層沉積技術對其包裹一層均勻的氧化物，并對其進行高溫退火，分解其表面存在的污染物，最后通過化學腐蝕去除表面包裹的氧化物涂層，進而獲得純凈的基底，可達到清潔基底和可重復使用的目的。
本發明授權一種清潔表面增強拉曼基底并實現可重復利用的方法在權利要求書中公布了：1.一種清潔表面增強拉曼基底并實現可重復利用的方法，其特征在于，包括以下步驟：1）ALD沉積氧化物薄膜：在含有雜質的SERS基底上通過ALD技術沉積厚度為1-10nm的氧化物薄膜，形成氧化物薄膜包裹的SERS基底，所述氧化物薄膜為氧化鋁薄膜或氧化鋅薄膜；2）高溫退火：將步驟1）得到的氧化物薄膜包裹的SERS基底在空氣中進行高溫退火，退火溫度為300-600℃，時間為1-120分鐘，去除基底表面雜質，SERS基底在氧化物薄膜的保護下不被改變；3）化學腐蝕：將上述退火后的基底在酸或堿溶液中浸泡去除結構中的氧化物，獲得純凈且可重復利用的基底。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人南京理工大學，其通訊地址為：210014 江蘇省南京市玄武區孝陵衛街道孝陵衛街200號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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