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  • 本公開提供一種光學裝置以及具備光學裝置的攝像單元,該光學裝置能夠在不使結(jié)構(gòu)復雜化的情況下去除附著于透光體的表面的異物。光學裝置(10)具備最外層透鏡(1)(透光體)、殼體(2)、振動體(3)、壓電元件(5)以及驅(qū)動電路(6)。驅(qū)動電路(6)...
  • 一種裝置包括半封閉壓縮機殼體、容納在殼體中的電力驅(qū)動雙缸滾動活塞旋轉(zhuǎn)壓縮機組件、電機驅(qū)動電子器件、以及輔助殼體。輔助殼體限定具有壁的半封閉制冷劑進口隔室。輔助殼體還限定與進口隔室共享壁但是與進口隔室半封閉分離的電子器件隔室。壓縮機殼體與進口...
  • 可用于合成鞘磷脂的新化合物,例如N?棕櫚酰基?D?赤型?鞘磷脂,使用這些新化合物制備鞘磷脂的新方法,通過這些方法制成的鞘磷脂制劑,以及包含鞘磷脂的組合物。
  • 本文描述了集成臺式半導體工藝單元和基于單元的半導體制造生產(chǎn)線。一種單元包含工具隔室,其中一個或多個半導體工藝工具被定位。每個工藝工具是模塊化的,并且由限定工具配置和功能的單元組裝而成。所述單元還包括流體耦合到所述半導體工藝工具及外部連接的一...
  • 本實施方式涉及透鏡驅(qū)動裝置,該透鏡驅(qū)動裝置包括:固定部分;第一移動部分,該第一移動部分設置在固定部分內(nèi);第二移動部分,該第二移動部分設置在第一移動部分內(nèi);第一驅(qū)動部分,該第一驅(qū)動部分使第一移動部分在光軸方向上移動;第二驅(qū)動部分,該第二驅(qū)動部...
  • 一種用于設備(900)的產(chǎn)品(500)的拾取和定位系統(tǒng)(1),包括運輸系統(tǒng)(901)和操作系統(tǒng)(902),適于接合夾持定位在第一位置(A)、優(yōu)選在所述運輸系統(tǒng)(901)上的產(chǎn)品(500),以便移動它們并將它們定位在第二位置(B)、優(yōu)選在所述...
  • 在一些實施方案中,本公開涉及一種系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括基板和形成在該基板的一個或多個表面上的流體捕獲材料。該流體捕獲材料包括結(jié)合一種或多種流體的吸附劑材料,該一種或多種流體包括水、二氧化碳、硫氧化物或它們的組合。該流體捕獲材料還包括一種或多種粘結(jié)...
  • 一種半導體器件,包括:背面電源軌,位于N溝道場效應晶體管到N溝道場效應晶體管空間之間以及至少一個P溝道場效應晶體管到P溝道場效應晶體管空間之間;以及位于背面電源軌之間的背面局部信號線。
  • 麥克風信號轉(zhuǎn)換模塊(1)具備:緩沖電路(2),其輸出對從換能器輸入的第一模擬信號(Sa1)以第一增益(G1)進行電平轉(zhuǎn)換而得到的第二模擬信號(Sa2);模數(shù)轉(zhuǎn)換電路(3),其將第二模擬信號(Sa2)的電平以第二增益(G2)轉(zhuǎn)換為數(shù)字值;以及...
  • 提供了用于生成訓練數(shù)據(jù)的方法和用于生成訓練數(shù)據(jù)的設備,該方法包括:獲取包括與學習目標相對應的對象的第一圖像;基于在與第一圖像的視點相同的視點處捕獲的第二圖像獲取不包括對象的背景圖像;識別包括第一圖像中的對象的感興趣區(qū)域;從背景圖像獲取與感興...
  • 一種用于制造增強管或管區(qū)段(10)的彎曲機(50),所述增強管或管區(qū)段(10)包括具有厚度t和直徑為D的底部的金屬管或管區(qū)段,以及沿著金屬管或管區(qū)段(10)的圓周在內(nèi)表面上的至少一個第一金屬加強元件,5其中彎曲機(50)包括一個內(nèi)輥(51)...
  • 本文公開了能夠與鈣連蛋白(CNX)結(jié)合的抗原結(jié)合分子。還公開了嵌合抗原受體、抗體?藥物偶聯(lián)物,和包含此類抗原結(jié)合分子的組合物,以及核酸、載體和細胞。還公開了涉及能與鈣連蛋白(CNX)結(jié)合的抗原結(jié)合分子的用途和方法。
  • 本發(fā)明涉及以下方法:(i)治療受試者的疾病,(ii)在有需要的受試者中改善用力肺活量的下降,(iii)在有需要的受試者中調(diào)節(jié)avf36整合素、avf31整合素或avf36整合素和avf31整合素兩者,(iv)在有需要的受試者中增加一個或多個...
  • 一種半導體結(jié)構(gòu)包括在基板上形成的交替的被摻雜半導體磊晶層及帽磊晶層的疊層。每個被摻雜半導體磊晶層包括具有載流子摻雜劑的硅,且每個帽磊晶層包括未摻雜載流子摻雜劑的硅及碳。
  • 本發(fā)明涉及一種基于掃描全息術的基板對準裝置及方法,該裝置包括:樣品固定部分,其包括多個保持件,用于保持和支撐包括基板和芯片的位于不同位置的相應基板的兩端;樣品轉(zhuǎn)移部分,其用于將由多個保持件支撐的、位于不同位置的基板移動到特定位置;全息信息接...
  • 一種工業(yè)噴墨印刷方法,所述工業(yè)噴墨印刷方法包括步驟:a)從硅基MEMS壓電噴墨印刷頭在20℃至40℃之間的噴射溫度下在基材上噴射水性噴墨墨水;以及b)干燥噴射在所述基材上的所述水性噴墨墨水;其中所述水性噴墨墨水含有炭黑顏料和附著到彩色顏料的...
  • 本發(fā)明公開了可用于通過調(diào)節(jié)SLC6A19轉(zhuǎn)運來治療或預防與氨基酸的異常水平相關的疾病或病癥的化合物、組合物和方法。
  • 本文所公開的技術涉及基于使用信標衛(wèi)星重定向來自通信衛(wèi)星的光學下行鏈路參考波束以供地面終端接收來補償衛(wèi)星通信系統(tǒng)中的光束—激光束。所述信標衛(wèi)星在同一軌道路徑上領先于所述通信衛(wèi)星飛行對應于所述地面終端用于發(fā)射光學上行鏈路通信波束的超前瞄準角(P...
  • 在一個實施例中,一種適合于半導體處理中使用的處理腔室包括封閉內(nèi)部容積的腔室主體。基座設置在內(nèi)部容積中,并且內(nèi)部容積包括基座下方的凈化內(nèi)部容積和基板支撐件上方的處理容積。襯墊設置在基座的徑向外側(cè)。處理腔室還包括預熱環(huán)。預熱環(huán)配置成當基座為升高...
  • 提供一種半導體結(jié)構(gòu),其包括背側(cè)源極/漏極接觸結(jié)構(gòu),該背側(cè)源極/漏極接觸結(jié)構(gòu)接觸晶體管的源極/漏極區(qū)并與位于晶體管背側(cè)上的三層底部電介質(zhì)隔離結(jié)構(gòu)的一部分重疊。三層底部電介質(zhì)隔離結(jié)構(gòu)的存在防止了晶體管的柵極結(jié)構(gòu)與背側(cè)源極/漏極接觸結(jié)構(gòu)之間的短路...
技術分類
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