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最新專利技術(shù)
  • 本發(fā)明公開了一種去除套管直達波的測井聲波全自動處理方法、系統(tǒng)、裝置及介質(zhì)，包括：采集某一深度上的測井上的陣列聲波作為原始波形數(shù)據(jù)；對原始波形數(shù)據(jù)進行標準化處理，獲取標準化波形數(shù)據(jù)；然后利用套管波速度恒定的特點，對標準化波形數(shù)據(jù)進行自動速度濾...
  • 本發(fā)明公開一種水平井單砂體構(gòu)型方法及系統(tǒng)，該方法確定取心直井單砂體垂向構(gòu)型模式；識別非取心直井單砂體垂向構(gòu)型界面；定量識別水平井單砂體垂向構(gòu)型界面；搭建反映構(gòu)造趨勢的直井?水平井連井構(gòu)型對比格架；根據(jù)水平井垂向構(gòu)型界面、地層變化趨勢和井軌跡...
  • 本發(fā)明涉及一種高效的雙工位光纖切割刀，其特征在于：包括切割刀主體、收納箱和蓋板；所述切割刀主體的兩側(cè)一體式設(shè)有往外延伸的突出部，所述突出部的內(nèi)側(cè)設(shè)有中空的收納槽，其頂端設(shè)有開槽和安裝平臺，所述開槽貫穿于所述收納槽設(shè)置；所述收納箱抽拉式設(shè)在所...
  • 本發(fā)明公開一種折疊式投遠顯示設(shè)備，包括顯示屏、分光鏡和曲面反射鏡，顯示屏向分光鏡的方向發(fā)射光線，至少部分光線被分光鏡反射至曲面反射鏡，并由曲面反射鏡反射回分光鏡后，透過分光鏡，射向出瞳位置；所述顯示屏設(shè)置在顯示屏安裝支架上,所述顯示屏安裝支...
  • 本公開涉及一種抬頭顯示器的試驗臺架。抬頭顯示器的試驗臺架包括底座與支撐組件，支撐組件包括支撐架、調(diào)節(jié)機構(gòu)與安裝支架，支撐架固定于底座，調(diào)節(jié)機構(gòu)設(shè)于支撐架與安裝支架之間，調(diào)節(jié)機構(gòu)用于改變支撐架與安裝支架間的相對位置關(guān)系。其中，支撐組件設(shè)置為多...
  • 本發(fā)明涉及一種顯示裝置，包括偏光層、顯示模組以及背光模塊；所述顯示模組設(shè)置于所述背光模塊的出光側(cè)，包括液晶面板、第一偏光片以及第一1/4玻片；所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶面板靠近所述背光模塊的一側(cè)；所述第一1/4玻片設(shè)置于所述液晶面板遠離所...
  • 本發(fā)明提供過一種陣列基板和顯示裝置。陣列基板包括驅(qū)動模組，驅(qū)動電路包括輸入模塊、輸出模塊和降噪模塊，輸入模塊在輸入信號的控制下，將第一輸入信號傳輸至第一節(jié)點，輸出模塊在第一節(jié)點的電位的控制下，將第二輸入信號傳輸至驅(qū)動電路的輸出端，降噪模塊在...
  • 本申請?zhí)峁┝艘环N可變光圈、攝像頭模組及電子設(shè)備，屬于電子技術(shù)領(lǐng)域。所述可變光圈：動子組件、定子組件和驅(qū)動組件；所述動子組件和所述定子組件同軸布置；所述驅(qū)動組件包括至少一個磁石件和至少一個感應線圈；所述動子組件和所述定子組件的其中之一上布置所...
  • 本公開提供一種光圈葉片、可變光圈、攝像模組和電子設(shè)備，該光圈葉片具有用于圍成光圈的第一側(cè)邊；所述第一側(cè)邊包括相連的第一直邊和第二直邊，所述第一直邊和所述第二直邊之間形成鈍角。上述方案能提高可變光圈可調(diào)整得到的亮度等級數(shù)量，以及提高入光的均勻...
  • 本公開提供了一種可變光圈、攝像模組和電子設(shè)備，涉及電子技術(shù)領(lǐng)域。可變光圈包括滾柱、轉(zhuǎn)動支架、多個葉片和底座，底座呈環(huán)形，底座套設(shè)在轉(zhuǎn)動支架外，滾柱位于底座與轉(zhuǎn)動支架之間，并與底座和轉(zhuǎn)動支架滾動連接，多個葉片環(huán)狀分布與底座的一側(cè)，并圍成光圈孔...
  • 本申請公開了一種可變光圈，屬于攝像技術(shù)領(lǐng)域。該可變光圈包括：葉片組件、動子和定子；所述定子的內(nèi)部中空，所述動子可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述定子的內(nèi)部；所述葉片組件轉(zhuǎn)動連接于所述定子，且滑動連接于所述動子；所述葉片組件包括多個葉片集，每個葉片集包括處于...
  • 本申請公開了一種掩膜版、隔墊物以及顯示基板。掩膜版包括遮光區(qū)與透光區(qū)；透光區(qū)包括主體圖形，主體圖形呈多邊形狀；透光區(qū)還包括外擴圖形，外擴圖形設(shè)置于主體圖形的一角位置處，外擴圖形自角位置處向遠離主體圖形的方向外擴；透光區(qū)還包括補償圖形，主體圖...
  • 本發(fā)明提供了一種曝光劑量修正派件方法、系統(tǒng)、裝置及計算機可讀存儲介質(zhì)，包括根據(jù)刻蝕機臺的空閑情況選取曝光劑量修正流程信息，所述曝光劑量修正流程信息包括子工藝配方和分配裝配信息，將所述子工藝配方傳輸給光刻機臺，將待處理批次的晶圓分派給所述光刻...
  • 本申請?zhí)峁┝艘环N自動加藥優(yōu)化控制方法及裝置、系統(tǒng)、可讀存儲介質(zhì)，自動加藥優(yōu)化控制方法包括：在線式含水分析儀，設(shè)于沉降罐的出口管線內(nèi)，用于實時檢測原料油的來液含水率；藥劑自動加注單元，與在線式含水分析儀相連，并位于沉降罐的加藥管線上，用于加注...
  • 根據(jù)本公開的實施例，提供了控制設(shè)備、控制方法和存儲介質(zhì)。該控制設(shè)備包括：多個連接單元，分別連接至控制設(shè)備中的總線；一個或多個總線單元，其中一個或多個總線單元中的每個總線單元被配置為響應于連接至多個連接單元中的一個連接單元而獲取與該連接單元相...
  • 根據(jù)本公開的實施例，提供了控制設(shè)備、控制方法和存儲介質(zhì)。該控制設(shè)備包括：一個或多個總線單元，分別連接至控制設(shè)備中的總線；以及彼此連接的第一網(wǎng)關(guān)和第二網(wǎng)關(guān)，第一網(wǎng)關(guān)和第二網(wǎng)關(guān)分別連接至總線并且適于耦合到控制器，其中第一網(wǎng)關(guān)被配置為執(zhí)行控制器與...
  • 本發(fā)明涉及一種石灰窯內(nèi)上導流帽結(jié)料狀態(tài)下的生產(chǎn)過程控制方法，所述方法包括以下步驟：步驟1：對結(jié)料異常進行在線判斷；步驟2：針對結(jié)料異常進行在線處置；其中，所述結(jié)料異常在線判斷是根據(jù)空氣換熱器的窯內(nèi)廢氣的變化量ΔGas和窯頂溫度變化量ΔTTo...
  • 本發(fā)明涉及石油固井技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種固井用限壓控流器檢測工裝及檢測方法，本發(fā)明實施例通過將井筒模擬組件與所述固井用限壓控流器的輸出端相連，可以模擬井筒內(nèi)流體對所述固井用限壓控流器的壓力；通過將驅(qū)動組件與所述固井用限壓控流器的輸入端相連，...
  • 本發(fā)明為一種履帶底盤小農(nóng)機運動控制系統(tǒng)，包括履帶底盤以及分別與履帶底盤連接的車身殼體、行走裝置、控制器和電源管理裝置，控制器和電源管理裝置位于車身殼體內(nèi)，控制器包括運動控制單元，用于對接收到的運動控制指令進行解析并對履帶底盤進行精確運動控制...
  • 本申請公開一種繞障飛行方法、裝置、無人設(shè)備及存儲介質(zhì)，涉及無人設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：通過預先訓練的語義分割模型對攝像頭拍攝的前方圖像進行障礙物識別，得到無人設(shè)備前方的障礙物的位置信息；根據(jù)雷達采集的雷達數(shù)據(jù)，確定無人設(shè)備與障礙物的距離信...
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