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  • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N營(yíng)養(yǎng)泵的控制方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。該方法包括：響應(yīng)于目標(biāo)對(duì)象的喂養(yǎng)指令，獲取目標(biāo)對(duì)象的喂養(yǎng)方案，所述喂養(yǎng)方案包括：多個(gè)喂養(yǎng)階段，不同喂養(yǎng)階段的至少一個(gè)喂養(yǎng)參數(shù)不同。根據(jù)所述喂養(yǎng)方案，控制營(yíng)養(yǎng)泵輸出營(yíng)養(yǎng)品。本申請(qǐng)的方法，提...
  • 本申請(qǐng)涉及一種手術(shù)室管理系統(tǒng)、手術(shù)室管理方法及計(jì)算機(jī)設(shè)備。系統(tǒng)包括：圖像采集設(shè)備和管理設(shè)備；圖像采集設(shè)備包括全景圖像采集裝置、手術(shù)床圖像采集裝置及術(shù)野圖像采集裝置；圖像采集設(shè)備，用于采集手術(shù)室的場(chǎng)景圖像；場(chǎng)景圖像包括手術(shù)行為圖像和手術(shù)環(huán)境圖...
  • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N檢測(cè)方法、醫(yī)療設(shè)備以及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，檢測(cè)方法應(yīng)用于醫(yī)療設(shè)備，醫(yī)療設(shè)備包括控制器、驅(qū)動(dòng)件、驅(qū)動(dòng)控制件，控制器控制驅(qū)動(dòng)控制件驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)件運(yùn)行，包括獲得驅(qū)動(dòng)件的運(yùn)行狀態(tài)參數(shù)，根據(jù)驅(qū)動(dòng)件的運(yùn)行狀態(tài)參數(shù)和預(yù)設(shè)判斷規(guī)則，確定醫(yī)療設(shè)備的狀態(tài)信...
  • 本發(fā)明涉及用于永磁體的罩體及其制造方法，更詳細(xì)地，涉及一種形成得包圍為了對(duì)普通船舶或各種戰(zhàn)艦、海洋設(shè)施等因各種原因產(chǎn)生的破洞部位進(jìn)行封閉及防水措施等而在水中作業(yè)時(shí)使用的永磁體的外周面，從而不僅可以保護(hù)內(nèi)部容納的永磁體免受沖擊、摩擦等外部刺激...
  • 一種電感結(jié)構(gòu)，其于絕緣體中埋設(shè)電感本體及具有多個(gè)穿孔的磁芯結(jié)構(gòu)，以借由該多個(gè)穿孔提升該磁芯結(jié)構(gòu)與該絕緣體之間的結(jié)合力，故本發(fā)明的電感結(jié)構(gòu)能避免剝離現(xiàn)象的發(fā)生。
  • 本發(fā)明涉及電子控制器件技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種推動(dòng)結(jié)構(gòu)及繼電器。推動(dòng)結(jié)構(gòu)包括推動(dòng)桿，推動(dòng)桿具有第一端和第二端，推動(dòng)桿的周向表面設(shè)置有環(huán)形槽，用于安裝擋圈；沿推動(dòng)桿的軸向，環(huán)形槽的槽底與推動(dòng)桿的軸線之間的垂直距離不完全相等；擋圈能夠與環(huán)形...
  • 本發(fā)明公開的半導(dǎo)體襯底的制造方法包括：提供半導(dǎo)體襯底基材，所述半導(dǎo)體襯底基材包括含硅材料；在真空環(huán)境下，照射所述半導(dǎo)體襯底基材的表面使所述表面熔融形成液態(tài)表面；以及在所述液態(tài)表面沉積薄膜層以獲得半導(dǎo)體襯底，所述薄膜層為氮化硅和/氧化硅。本發(fā)...
  • 本發(fā)明提供一種改善薄膜均勻性的方法，所述方法包括：提供襯底，所述襯底內(nèi)形成有多個(gè)溝槽，使得所述襯底具有溝槽部以及位于相鄰所述溝槽部之間的凸起部；對(duì)所述襯底進(jìn)行離子注入，以使所述凸起部的至少部分表面非晶化形成非晶層；對(duì)所述襯底以及所述非晶層進(jìn)...
  • 本發(fā)明半導(dǎo)體基片的表面處理方法，包括：在半導(dǎo)體基片的表面上形成氧化硅層；在所述氧化硅層上形成過渡層；在所述過渡層上形成硅基層；以及在所述硅基層上形成柵極絕緣層。本發(fā)明可在半導(dǎo)體基片上形成結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的柵極絕緣膜，而且該方法操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)...
  • 本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體器件的制造方法，在已生成具有邊緣部的初始局部氧化結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，形成圖案化掩膜層，該圖案化掩膜層的開口對(duì)準(zhǔn)初始局部氧化結(jié)構(gòu)的邊緣部，在該圖案化掩膜層和邊緣部的掩蔽作用下，對(duì)開口中的襯底進(jìn)行用于提高氧化率的離子注入，利用開口...
  • 本發(fā)明提供了一種金屬焊盤結(jié)構(gòu)及其制備方法，所述制備方法包括：提供襯底，襯底中形成有金屬線及覆蓋金屬線的層間介質(zhì)層；在金屬線上的層間介質(zhì)層中形成第一開口暴露金屬線的表面，且第一開口的底部設(shè)有分隔圖形覆蓋金屬線的部分表面；形成第一焊盤層順形地覆...
  • 本公開提供了一種芯片貼裝方法及芯片封裝方法，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，以在保證芯片質(zhì)量的同時(shí)，控制芯片貼裝的成本。芯片貼裝方法包括：提供設(shè)置有多個(gè)裸片的承載膜，多個(gè)裸片被劃分為多個(gè)等級(jí)；將目標(biāo)等級(jí)的多個(gè)裸片移動(dòng)至基板上，目標(biāo)等級(jí)為多個(gè)等級(jí)中裸片數(shù)...
  • 本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體設(shè)備，包括反應(yīng)腔室、組件腔室、旋轉(zhuǎn)伸縮機(jī)構(gòu)和邊緣保護(hù)環(huán)，反應(yīng)腔室內(nèi)設(shè)置有用于承載晶圓的承載部件，組件腔室設(shè)置在反應(yīng)腔室的周側(cè)，且組件腔室的第一側(cè)與反應(yīng)腔室可選擇的通斷連接，組件腔室的第二側(cè)與外界環(huán)境可選擇的通斷；旋轉(zhuǎn)伸縮...
  • 本發(fā)明涉及一種具有晶圓片定位功能的晶圓片承載裝置，用于固定晶圓片于其上，并且可對(duì)晶圓片進(jìn)行定位，并且晶圓片的邊緣包含定位結(jié)構(gòu)，晶圓片承載裝置包括有基座、承載盤、多個(gè)頂針、線性致動(dòng)器以及對(duì)準(zhǔn)器。承載盤設(shè)置于基座上。承載盤包含上表面以及下表面；...
  • 本申請(qǐng)?zhí)峁┌雽?dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法，所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括：半導(dǎo)體襯底，所述半導(dǎo)體襯底的第一表面包括第一外延層和第二外延層以及相互垂直的x方向和y方向和若干沿x方向交替分布的第一區(qū)域和第二區(qū)域；位于所述若干第二區(qū)域的第二外延層中的若干第一溝槽；位...
  • 本申請(qǐng)公開了一種正極的制備方法、正極及應(yīng)用。包括以下步驟：將含有活性材料、導(dǎo)電劑、保液劑和粘結(jié)劑的原料混合，剪切攪拌、預(yù)成型、延壓，得到正極膜，將所述正極膜與集流體貼合，得到所述正極。
  • 本申請(qǐng)公開了一種負(fù)極極片、電池單體、電池和用電裝置，負(fù)極極片包括負(fù)極集流體以及位于負(fù)極集流體至少一個(gè)表面上的修飾層，修飾層包括堿金屬親和層以及位于堿金屬親和層遠(yuǎn)離負(fù)極集流體表面上的非金屬導(dǎo)電層；堿金屬親和層的形核過電位記為V1
  • 本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種正極極片及其制備方法、電池單體、電池和用電裝置。該正極極片包括正極集流體和設(shè)置于正極集流體至少一側(cè)的正極膜層，正極膜層包括正極活性材料和疏水添加劑。本申請(qǐng)的技術(shù)方案可以降低正極極片中的含水量，從而提高電池的循環(huán)性能。
  • 本申請(qǐng)公開了一種鋅鎳電池的負(fù)極及其制備方法。所述負(fù)極包括鋅箔和覆蓋于所述鋅箔表面的界面層；該聚合物人工固體電解質(zhì)界面層的制備方法簡(jiǎn)單，產(chǎn)率高；通過旋涂的方法可以均勻的將材料旋涂在鋅箔上；該聚合物人工固體電解質(zhì)界面層提高了堿性鋅鎳電池鋅負(fù)極的...
  • 本發(fā)明提供了一種環(huán)氧化天然橡膠包覆的鋰電池正極活性材料及其制備方法和應(yīng)用，包括如下步驟：1)將環(huán)氧化天然橡膠溶解于甲苯，并加入過氧化二異丙苯(DCP)溶解；2)取步驟1)制備的溶液，加入正極活性材料顆粒，加熱攪拌；3)將步驟2)所得材料進(jìn)行...
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