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  • 本發(fā)明涉及一種傳輸線纜組件及傳輸線纜組件的干擾信號(hào)抑制方法傳輸線纜用于實(shí)現(xiàn)射頻線圈接收信號(hào)的傳輸；傳輸線纜陷波器與傳輸線纜可拆卸連接，陷波器包括第一線圈和第二線圈。第一線圈被構(gòu)造為環(huán)形螺旋狀，第一線圈套設(shè)于傳輸線纜上；第二線圈也被構(gòu)造為環(huán)形...
  • 本申請(qǐng)公開(kāi)了MRI系統(tǒng)和用于MRI系統(tǒng)的勻場(chǎng)方法，MRI系統(tǒng)包括：MRI設(shè)備，其限定磁體掃描腔并適于產(chǎn)生穿過(guò)磁體掃描腔的主磁場(chǎng)；手術(shù)臺(tái)；移位機(jī)構(gòu)，其適于使得MRI設(shè)備和手術(shù)臺(tái)中的一個(gè)是可移位的；尋跡裝置，其適于控制移位機(jī)構(gòu)，以引起MRI設(shè)備...
  • 本發(fā)明屬于卸船機(jī)防撞系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種橋式抓斗卸船機(jī)雷達(dá)測(cè)距防撞系統(tǒng)，包括控制器、雷達(dá)測(cè)距儀、物料輸送模塊、信號(hào)傳輸模塊、碰撞信息檢測(cè)分析模塊、數(shù)據(jù)信息處理上傳模塊、警示模塊、警示分析處理模塊；本發(fā)明通過(guò)設(shè)置警示單元，當(dāng)抓斗與船艙之間...
  • 本發(fā)明公開(kāi)了一種飛機(jī)外形的測(cè)量方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)。包括：實(shí)時(shí)獲取目標(biāo)測(cè)量站位在自動(dòng)導(dǎo)向車(chē)坐標(biāo)系中的當(dāng)前測(cè)量站位坐標(biāo)，控制自動(dòng)導(dǎo)向車(chē)移動(dòng)至目標(biāo)測(cè)量站位；當(dāng)自動(dòng)導(dǎo)向車(chē)到達(dá)目標(biāo)測(cè)量站位時(shí)，控制激光雷達(dá)測(cè)量得到ERS定位點(diǎn)在激光雷達(dá)坐標(biāo)系中的測(cè)...
  • 本發(fā)明油氣勘探與地球物理測(cè)井領(lǐng)域，具體公開(kāi)一種基于疊前各向異性反演的裂縫定量預(yù)測(cè)方法和裝置，該方法包括：基于優(yōu)化后的全方位OVT道集或角度域ES360道集進(jìn)行疊前AVAZ反演得到反演結(jié)果；對(duì)所述反演結(jié)果進(jìn)行橢圓擬合，得到裂縫發(fā)育密度和裂縫方...
  • 本發(fā)明公開(kāi)了一種地震資料處理質(zhì)量監(jiān)控方法，涉及地震資料監(jiān)控技術(shù)領(lǐng)域，包括以下步驟：S1：收集歷史地震資料，并根據(jù)歷史地震資料進(jìn)行構(gòu)建地震資料處理質(zhì)量樣本集；S2：構(gòu)建地震資料處理質(zhì)量評(píng)價(jià)模型；該地震資料處理質(zhì)量監(jiān)控技術(shù)，通過(guò)將地震資料輸入至...
  • 本說(shuō)明書(shū)涉及油氣勘探技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種最大馳豫飽和度巖石物理模型建立方法、裝置和設(shè)備。其中所述最大馳豫飽和度巖石物理模型建立方法，包括：確定巖石的流固復(fù)合介質(zhì)模型，所述流固復(fù)合介質(zhì)模型為非均質(zhì)模型；根據(jù)流固復(fù)合介質(zhì)模型，確定地震波傳播過(guò)...
  • 本發(fā)明公開(kāi)了一種去除套管直達(dá)波的測(cè)井聲波全自動(dòng)處理方法、系統(tǒng)、裝置及介質(zhì)，包括：采集某一深度上的測(cè)井上的陣列聲波作為原始波形數(shù)據(jù)；對(duì)原始波形數(shù)據(jù)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化處理，獲取標(biāo)準(zhǔn)化波形數(shù)據(jù)；然后利用套管波速度恒定的特點(diǎn)，對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化波形數(shù)據(jù)進(jìn)行自動(dòng)速度濾...
  • 本發(fā)明公開(kāi)一種水平井單砂體構(gòu)型方法及系統(tǒng)，該方法確定取心直井單砂體垂向構(gòu)型模式；識(shí)別非取心直井單砂體垂向構(gòu)型界面；定量識(shí)別水平井單砂體垂向構(gòu)型界面；搭建反映構(gòu)造趨勢(shì)的直井?水平井連井構(gòu)型對(duì)比格架；根據(jù)水平井垂向構(gòu)型界面、地層變化趨勢(shì)和井軌跡...
  • 本發(fā)明涉及一種高效的雙工位光纖切割刀，其特征在于：包括切割刀主體、收納箱和蓋板；所述切割刀主體的兩側(cè)一體式設(shè)有往外延伸的突出部，所述突出部的內(nèi)側(cè)設(shè)有中空的收納槽，其頂端設(shè)有開(kāi)槽和安裝平臺(tái)，所述開(kāi)槽貫穿于所述收納槽設(shè)置；所述收納箱抽拉式設(shè)在所...
  • 本發(fā)明公開(kāi)一種折疊式投遠(yuǎn)顯示設(shè)備，包括顯示屏、分光鏡和曲面反射鏡，顯示屏向分光鏡的方向發(fā)射光線，至少部分光線被分光鏡反射至曲面反射鏡，并由曲面反射鏡反射回分光鏡后，透過(guò)分光鏡，射向出瞳位置；所述顯示屏設(shè)置在顯示屏安裝支架上,所述顯示屏安裝支...
  • 本公開(kāi)涉及一種抬頭顯示器的試驗(yàn)臺(tái)架。抬頭顯示器的試驗(yàn)臺(tái)架包括底座與支撐組件，支撐組件包括支撐架、調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與安裝支架，支撐架固定于底座，調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐架與安裝支架之間，調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于改變支撐架與安裝支架間的相對(duì)位置關(guān)系。其中，支撐組件設(shè)置為多...
  • 本發(fā)明涉及一種顯示裝置，包括偏光層、顯示模組以及背光模塊；所述顯示模組設(shè)置于所述背光模塊的出光側(cè)，包括液晶面板、第一偏光片以及第一1/4玻片；所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶面板靠近所述背光模塊的一側(cè)；所述第一1/4玻片設(shè)置于所述液晶面板遠(yuǎn)離所...
  • 本發(fā)明提供過(guò)一種陣列基板和顯示裝置。陣列基板包括驅(qū)動(dòng)模組，驅(qū)動(dòng)電路包括輸入模塊、輸出模塊和降噪模塊，輸入模塊在輸入信號(hào)的控制下，將第一輸入信號(hào)傳輸至第一節(jié)點(diǎn)，輸出模塊在第一節(jié)點(diǎn)的電位的控制下，將第二輸入信號(hào)傳輸至驅(qū)動(dòng)電路的輸出端，降噪模塊在...
  • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N可變光圈、攝像頭模組及電子設(shè)備，屬于電子技術(shù)領(lǐng)域。所述可變光圈：動(dòng)子組件、定子組件和驅(qū)動(dòng)組件；所述動(dòng)子組件和所述定子組件同軸布置；所述驅(qū)動(dòng)組件包括至少一個(gè)磁石件和至少一個(gè)感應(yīng)線圈；所述動(dòng)子組件和所述定子組件的其中之一上布置所...
  • 本公開(kāi)提供一種光圈葉片、可變光圈、攝像模組和電子設(shè)備，該光圈葉片具有用于圍成光圈的第一側(cè)邊；所述第一側(cè)邊包括相連的第一直邊和第二直邊，所述第一直邊和所述第二直邊之間形成鈍角。上述方案能提高可變光圈可調(diào)整得到的亮度等級(jí)數(shù)量，以及提高入光的均勻...
  • 本公開(kāi)提供了一種可變光圈、攝像模組和電子設(shè)備，涉及電子技術(shù)領(lǐng)域。可變光圈包括滾柱、轉(zhuǎn)動(dòng)支架、多個(gè)葉片和底座，底座呈環(huán)形，底座套設(shè)在轉(zhuǎn)動(dòng)支架外，滾柱位于底座與轉(zhuǎn)動(dòng)支架之間，并與底座和轉(zhuǎn)動(dòng)支架滾動(dòng)連接，多個(gè)葉片環(huán)狀分布與底座的一側(cè)，并圍成光圈孔...
  • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種可變光圈，屬于攝像技術(shù)領(lǐng)域。該可變光圈包括：葉片組件、動(dòng)子和定子；所述定子的內(nèi)部中空，所述動(dòng)子可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在所述定子的內(nèi)部；所述葉片組件轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述定子，且滑動(dòng)連接于所述動(dòng)子；所述葉片組件包括多個(gè)葉片集，每個(gè)葉片集包括處于...
  • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種掩膜版、隔墊物以及顯示基板。掩膜版包括遮光區(qū)與透光區(qū)；透光區(qū)包括主體圖形，主體圖形呈多邊形狀；透光區(qū)還包括外擴(kuò)圖形，外擴(kuò)圖形設(shè)置于主體圖形的一角位置處，外擴(kuò)圖形自角位置處向遠(yuǎn)離主體圖形的方向外擴(kuò)；透光區(qū)還包括補(bǔ)償圖形，主體圖...
  • 本發(fā)明提供了一種曝光劑量修正派件方法、系統(tǒng)、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，包括根據(jù)刻蝕機(jī)臺(tái)的空閑情況選取曝光劑量修正流程信息，所述曝光劑量修正流程信息包括子工藝配方和分配裝配信息，將所述子工藝配方傳輸給光刻機(jī)臺(tái)，將待處理批次的晶圓分派給所述光刻...
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