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最新專利技術(shù)
  • 本說明書涉及油氣勘探技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種最大馳豫飽和度巖石物理模型建立方法、裝置和設(shè)備。其中所述最大馳豫飽和度巖石物理模型建立方法，包括：確定巖石的流固復(fù)合介質(zhì)模型，所述流固復(fù)合介質(zhì)模型為非均質(zhì)模型；根據(jù)流固復(fù)合介質(zhì)模型，確定地震波傳播過...
  • 本發(fā)明公開了一種去除套管直達(dá)波的測井聲波全自動(dòng)處理方法、系統(tǒng)、裝置及介質(zhì)，包括：采集某一深度上的測井上的陣列聲波作為原始波形數(shù)據(jù)；對原始波形數(shù)據(jù)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化處理，獲取標(biāo)準(zhǔn)化波形數(shù)據(jù)；然后利用套管波速度恒定的特點(diǎn)，對標(biāo)準(zhǔn)化波形數(shù)據(jù)進(jìn)行自動(dòng)速度濾...
  • 本發(fā)明公開一種水平井單砂體構(gòu)型方法及系統(tǒng)，該方法確定取心直井單砂體垂向構(gòu)型模式；識(shí)別非取心直井單砂體垂向構(gòu)型界面；定量識(shí)別水平井單砂體垂向構(gòu)型界面；搭建反映構(gòu)造趨勢的直井?水平井連井構(gòu)型對比格架；根據(jù)水平井垂向構(gòu)型界面、地層變化趨勢和井軌跡...
  • 本發(fā)明涉及一種高效的雙工位光纖切割刀，其特征在于：包括切割刀主體、收納箱和蓋板；所述切割刀主體的兩側(cè)一體式設(shè)有往外延伸的突出部，所述突出部的內(nèi)側(cè)設(shè)有中空的收納槽，其頂端設(shè)有開槽和安裝平臺(tái)，所述開槽貫穿于所述收納槽設(shè)置；所述收納箱抽拉式設(shè)在所...
  • 本發(fā)明公開一種折疊式投遠(yuǎn)顯示設(shè)備，包括顯示屏、分光鏡和曲面反射鏡，顯示屏向分光鏡的方向發(fā)射光線，至少部分光線被分光鏡反射至曲面反射鏡，并由曲面反射鏡反射回分光鏡后，透過分光鏡，射向出瞳位置；所述顯示屏設(shè)置在顯示屏安裝支架上,所述顯示屏安裝支...
  • 本公開涉及一種抬頭顯示器的試驗(yàn)臺(tái)架。抬頭顯示器的試驗(yàn)臺(tái)架包括底座與支撐組件，支撐組件包括支撐架、調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與安裝支架，支撐架固定于底座，調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐架與安裝支架之間，調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于改變支撐架與安裝支架間的相對位置關(guān)系。其中，支撐組件設(shè)置為多...
  • 本發(fā)明涉及一種顯示裝置，包括偏光層、顯示模組以及背光模塊；所述顯示模組設(shè)置于所述背光模塊的出光側(cè)，包括液晶面板、第一偏光片以及第一1/4玻片；所述第一偏光片設(shè)置于所述液晶面板靠近所述背光模塊的一側(cè)；所述第一1/4玻片設(shè)置于所述液晶面板遠(yuǎn)離所...
  • 本發(fā)明提供過一種陣列基板和顯示裝置。陣列基板包括驅(qū)動(dòng)模組，驅(qū)動(dòng)電路包括輸入模塊、輸出模塊和降噪模塊，輸入模塊在輸入信號(hào)的控制下，將第一輸入信號(hào)傳輸至第一節(jié)點(diǎn)，輸出模塊在第一節(jié)點(diǎn)的電位的控制下，將第二輸入信號(hào)傳輸至驅(qū)動(dòng)電路的輸出端，降噪模塊在...
  • 本申請?zhí)峁┝艘环N可變光圈、攝像頭模組及電子設(shè)備，屬于電子技術(shù)領(lǐng)域。所述可變光圈：動(dòng)子組件、定子組件和驅(qū)動(dòng)組件；所述動(dòng)子組件和所述定子組件同軸布置；所述驅(qū)動(dòng)組件包括至少一個(gè)磁石件和至少一個(gè)感應(yīng)線圈；所述動(dòng)子組件和所述定子組件的其中之一上布置所...
  • 本公開提供一種光圈葉片、可變光圈、攝像模組和電子設(shè)備，該光圈葉片具有用于圍成光圈的第一側(cè)邊；所述第一側(cè)邊包括相連的第一直邊和第二直邊，所述第一直邊和所述第二直邊之間形成鈍角。上述方案能提高可變光圈可調(diào)整得到的亮度等級數(shù)量，以及提高入光的均勻...
  • 本公開提供了一種可變光圈、攝像模組和電子設(shè)備，涉及電子技術(shù)領(lǐng)域。可變光圈包括滾柱、轉(zhuǎn)動(dòng)支架、多個(gè)葉片和底座，底座呈環(huán)形，底座套設(shè)在轉(zhuǎn)動(dòng)支架外，滾柱位于底座與轉(zhuǎn)動(dòng)支架之間，并與底座和轉(zhuǎn)動(dòng)支架滾動(dòng)連接，多個(gè)葉片環(huán)狀分布與底座的一側(cè)，并圍成光圈孔...
  • 本申請公開了一種可變光圈，屬于攝像技術(shù)領(lǐng)域。該可變光圈包括：葉片組件、動(dòng)子和定子；所述定子的內(nèi)部中空，所述動(dòng)子可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在所述定子的內(nèi)部；所述葉片組件轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述定子，且滑動(dòng)連接于所述動(dòng)子；所述葉片組件包括多個(gè)葉片集，每個(gè)葉片集包括處于...
  • 本申請公開了一種掩膜版、隔墊物以及顯示基板。掩膜版包括遮光區(qū)與透光區(qū)；透光區(qū)包括主體圖形，主體圖形呈多邊形狀；透光區(qū)還包括外擴(kuò)圖形，外擴(kuò)圖形設(shè)置于主體圖形的一角位置處，外擴(kuò)圖形自角位置處向遠(yuǎn)離主體圖形的方向外擴(kuò)；透光區(qū)還包括補(bǔ)償圖形，主體圖...
  • 本發(fā)明提供了一種曝光劑量修正派件方法、系統(tǒng)、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，包括根據(jù)刻蝕機(jī)臺(tái)的空閑情況選取曝光劑量修正流程信息，所述曝光劑量修正流程信息包括子工藝配方和分配裝配信息，將所述子工藝配方傳輸給光刻機(jī)臺(tái)，將待處理批次的晶圓分派給所述光刻...
  • 本申請?zhí)峁┝艘环N自動(dòng)加藥優(yōu)化控制方法及裝置、系統(tǒng)、可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，自動(dòng)加藥優(yōu)化控制方法包括：在線式含水分析儀，設(shè)于沉降罐的出口管線內(nèi)，用于實(shí)時(shí)檢測原料油的來液含水率；藥劑自動(dòng)加注單元，與在線式含水分析儀相連，并位于沉降罐的加藥管線上，用于加注...
  • 根據(jù)本公開的實(shí)施例，提供了控制設(shè)備、控制方法和存儲(chǔ)介質(zhì)。該控制設(shè)備包括：多個(gè)連接單元，分別連接至控制設(shè)備中的總線；一個(gè)或多個(gè)總線單元，其中一個(gè)或多個(gè)總線單元中的每個(gè)總線單元被配置為響應(yīng)于連接至多個(gè)連接單元中的一個(gè)連接單元而獲取與該連接單元相...
  • 根據(jù)本公開的實(shí)施例，提供了控制設(shè)備、控制方法和存儲(chǔ)介質(zhì)。該控制設(shè)備包括：一個(gè)或多個(gè)總線單元，分別連接至控制設(shè)備中的總線；以及彼此連接的第一網(wǎng)關(guān)和第二網(wǎng)關(guān)，第一網(wǎng)關(guān)和第二網(wǎng)關(guān)分別連接至總線并且適于耦合到控制器，其中第一網(wǎng)關(guān)被配置為執(zhí)行控制器與...
  • 本發(fā)明涉及一種石灰窯內(nèi)上導(dǎo)流帽結(jié)料狀態(tài)下的生產(chǎn)過程控制方法，所述方法包括以下步驟：步驟1：對結(jié)料異常進(jìn)行在線判斷；步驟2：針對結(jié)料異常進(jìn)行在線處置；其中，所述結(jié)料異常在線判斷是根據(jù)空氣換熱器的窯內(nèi)廢氣的變化量ΔGas和窯頂溫度變化量ΔTTo...
  • 本發(fā)明涉及石油固井技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種固井用限壓控流器檢測工裝及檢測方法，本發(fā)明實(shí)施例通過將井筒模擬組件與所述固井用限壓控流器的輸出端相連，可以模擬井筒內(nèi)流體對所述固井用限壓控流器的壓力；通過將驅(qū)動(dòng)組件與所述固井用限壓控流器的輸入端相連，...
  • 本發(fā)明為一種履帶底盤小農(nóng)機(jī)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，包括履帶底盤以及分別與履帶底盤連接的車身殼體、行走裝置、控制器和電源管理裝置，控制器和電源管理裝置位于車身殼體內(nèi)，控制器包括運(yùn)動(dòng)控制單元，用于對接收到的運(yùn)動(dòng)控制指令進(jìn)行解析并對履帶底盤進(jìn)行精確運(yùn)動(dòng)控制...
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