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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國(guó)科學(xué)院微電子研究所;真芯(北京)半導(dǎo)體有限責(zé)任公司申請(qǐng)的專利一種用于調(diào)節(jié)狹縫式曝光帶均勻性的裝置和光刻機(jī)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114815511B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-07-04發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202110130278.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)一種用于調(diào)節(jié)狹縫式曝光帶均勻性的裝置和光刻機(jī)是由金成昱;梁賢石;林鍾吉;金在植;張成根;丁明正;劉強(qiáng);賀曉彬;白國(guó)斌;劉金彪設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-01-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種用于調(diào)節(jié)狹縫式曝光帶均勻性的裝置和光刻機(jī)在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種用于調(diào)節(jié)狹縫式曝光帶均勻性的裝置和光刻機(jī)，包括：校正模塊，其位于狹縫式曝光帶測(cè)量區(qū)域與狹縫式曝光帶的相反側(cè)，其中，狹縫式曝光帶測(cè)量區(qū)域位于狹縫式曝光帶的兩側(cè)；在所述校正模塊和所述狹縫式曝光帶測(cè)量區(qū)域之間，具有狹縫式曝光帶控制區(qū)域，濾光板可移動(dòng)至所述狹縫式曝光帶控制區(qū)域中；其中，校正模塊和濾光板在朝向所述曝光狹縫的方向上都是可移動(dòng)的。通過可移動(dòng)的校正模塊和濾光板，控制濾光板在狹縫式曝光帶控制區(qū)域移動(dòng)改變光強(qiáng)和焦距，從而改善狹縫均勻性，最小化由于狹縫均勻性改變而產(chǎn)生的問題。通過對(duì)狹縫式曝光帶均勻性的調(diào)整，能夠精細(xì)的調(diào)整關(guān)鍵尺寸一致，從而提升產(chǎn)品的良率。

本發(fā)明授權(quán)一種用于調(diào)節(jié)狹縫式曝光帶均勻性的裝置和光刻機(jī)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于調(diào)節(jié)狹縫式曝光帶均勻性的裝置，其特征在于，包括： 校正模塊，其位于狹縫式曝光帶測(cè)量區(qū)域與狹縫式曝光帶的相反側(cè)，其中，狹縫式曝光帶測(cè)量區(qū)域位于狹縫式曝光帶的兩側(cè)； 在所述校正模塊和所述狹縫式曝光帶測(cè)量區(qū)域之間，具有狹縫式曝光帶控制區(qū)域，濾光板可移動(dòng)至所述狹縫式曝光帶控制區(qū)域中；其中， 校正模塊和濾光板在朝向所述狹縫的方向上都是可移動(dòng)的； 位于所述狹縫式曝光帶一側(cè)的校正模塊是多個(gè)，每個(gè)所述校正模塊在朝向所述狹縫式曝光帶的方向上的移動(dòng)可以被單獨(dú)控制。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中國(guó)科學(xué)院微電子研究所;真芯(北京)半導(dǎo)體有限責(zé)任公司，其通訊地址為：100029 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。