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恭喜杭州廣立微電子股份有限公司胡佳南獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜杭州廣立微電子股份有限公司申請的專利一種光刻通孔熱點識別方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114695155B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110263882.0,技術領域涉及:H01L21/66;該發明授權一種光刻通孔熱點識別方法是由胡佳南;潘偉偉設計研發完成,并于2021-03-11向國家知識產權局提交的專利申請。

一種光刻通孔熱點識別方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種光刻通孔熱點識別方法,包括獲取版圖信息;將用于連接所述連接層的通孔層的V0的側邊分別向外移動,將移動至觸及相鄰切斷層圖形的側邊掃過的矩形區域識別為擴充區;獲取所述V0周圍的擴充區數量,并根據V0周圍的擴充區數量來識別所述V0是否為光刻通孔熱點。能夠實現方便、有效和快捷地對用于版圖設計熱點的搜索與分析。過程簡潔,識別結果直觀準確,有利于生產工藝的改進和效率提高。

本發明授權一種光刻通孔熱點識別方法在權利要求書中公布了:1.一種光刻通孔熱點識別方法,其特征在于,包括: 步驟S1.獲取版圖信息,包括:M0層、M0切斷層和用于連接所述M0層的通孔層;所述M0層中的M0用于連接有源區;所述M0切斷層中的切斷記為M0C;所述通孔層的通孔呈矩形,記為V0; 步驟S2.將V0的四條側邊分別沿著垂直于該側邊的方向朝矩形外移動,直至滿足條件則停止移動;所述條件包括觸及所述M0C、移動的距離達到預設的第一距離;將移動至觸及M0C停止的側邊掃過的矩形區域識別為擴充區; 步驟S3.獲取所述V0周圍的擴充區數量,并根據V0周圍的擴充區數量來識別所述V0是否為光刻通孔熱點,將周圍有三個擴充區的V0判斷為光刻通孔熱點。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人杭州廣立微電子股份有限公司,其通訊地址為:310012 浙江省杭州市西湖區西斗門路3號天堂軟件園A幢15樓F1座;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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