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龍圖騰網(wǎng)恭喜福建中科光芯光電科技有限公司申請(qǐng)的專利一種襯底集成、自組裝、自對(duì)準(zhǔn)微透鏡組的制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119805632B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-03發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510279836.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G02B3/00；該發(fā)明授權(quán)一種襯底集成、自組裝、自對(duì)準(zhǔn)微透鏡組的制備方法是由熊祎靈;蘇輝設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-03-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種襯底集成、自組裝、自對(duì)準(zhǔn)微透鏡組的制備方法在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種襯底集成、自組裝、自對(duì)準(zhǔn)微透鏡組的制備方法，屬于光芯片的微納加工技術(shù)領(lǐng)域。所述方法，在完成正面外延結(jié)構(gòu)并減薄拋光后，在晶圓背面進(jìn)行二次外延并制作種子層，通過(guò)S?K生長(zhǎng)法依次生長(zhǎng)一層浸潤(rùn)層和一層透鏡層，最終在晶圓背面交替生長(zhǎng)N個(gè)浸潤(rùn)層和N個(gè)透鏡層，形成外延結(jié)構(gòu)；將形成的外延結(jié)構(gòu)進(jìn)行自上而下刻蝕，直至刻蝕深度覆蓋所有浸潤(rùn)層，形成刻蝕窗口；腐蝕形成的刻蝕窗口內(nèi)及周圍的浸潤(rùn)層，只留下透鏡層，并在之間填充透明的材料進(jìn)行加固。本發(fā)明基于S?K生長(zhǎng)，使得微透鏡組的實(shí)際制備在外延生長(zhǎng)階段就一步到位，省去生產(chǎn)流轉(zhuǎn)過(guò)程中多各環(huán)節(jié)積累的誤差、污染等不利因素，精度和良率得到充分保證。

本發(fā)明授權(quán)一種襯底集成、自組裝、自對(duì)準(zhǔn)微透鏡組的制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種襯底集成、自組裝、自對(duì)準(zhǔn)微透鏡組的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：S1、在襯底上生長(zhǎng)光芯片外延各功能層；S2、完成正面外延結(jié)構(gòu)并減薄拋光后，在晶圓背面進(jìn)行二次外延并制作種子層，種子層位置與設(shè)計(jì)的光芯片有源區(qū)同軸，即種子層中每個(gè)種子的位置需要與各個(gè)光芯片有源區(qū)同軸；S3、通過(guò)混合生長(zhǎng)模式依次生長(zhǎng)一層浸潤(rùn)層和一層透鏡層，透鏡層的四周通過(guò)支柱與種子層相連接，透鏡層的其余部分遵循層狀生長(zhǎng)模式在浸潤(rùn)層上以二維方式均勻地沉積一層或幾層原子；當(dāng)沉積達(dá)到預(yù)定厚度后，生長(zhǎng)模式轉(zhuǎn)變?yōu)閸u狀生長(zhǎng)模式，此時(shí)三維島嶼在種子層中相應(yīng)種子所對(duì)應(yīng)位置形成；S4、重復(fù)步驟S3，最終在晶圓背面交替生長(zhǎng)N個(gè)浸潤(rùn)層和N個(gè)透鏡層，形成外延結(jié)構(gòu)；S5、將步驟S4形成的外延結(jié)構(gòu)進(jìn)行自上而下刻蝕，直至刻蝕深度覆蓋所有浸潤(rùn)層，形成刻蝕窗口；S6、腐蝕步驟S5形成的刻蝕窗口內(nèi)及刻蝕窗口周圍的浸潤(rùn)層，只留下透鏡層，并在刻蝕掉的部分填充透明的材料進(jìn)行加固。

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