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龍圖騰網恭喜富士膠片電子材料美國有限公司申請的專利拋光組合物及其使用方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114456717B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210053475.1，技術領域涉及：C09G1/02；該發明授權拋光組合物及其使用方法是由A·P·列昂諾夫;A·米什拉設計研發完成，并于2018-03-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本拋光組合物及其使用方法在說明書摘要公布了：本公開提供化學機械拋光組合物及用于以高移除速率拋光多晶硅膜的方法。所述組合物包括1磨料；2至少一種結構I的化合物；3至少一種結構II的化合物；及4水；其中，所述組合物不包括氫氧化四甲基銨或其鹽。結構I及II中的變量n、R1?R7、X、Y及Z1?Z3在本專利說明書中進行定義。這些化學機械拋光組合物中的結構I與II的化合物的協同效應導致在拋光期間高的多晶硅膜材料移除速率。

本發明授權拋光組合物及其使用方法在權利要求書中公布了：1.一種化學機械拋光組合物，包含：1至少一種磨料；2至少一種結構I的化合物： 其中，所述結構I的化合物為選自于由單乙醇胺、二乙醇胺、1-氨基-2-丙醇、1-氨基-2-丁醇、1,3-二氨基-2-丙醇、3-氨基-1,2-丙二醇、3-氨基-1-丙醇、2-2-氨基乙氧基乙醇、2-氨基-3-甲基-1-丁醇及5-氨基-1-戊醇組成的組的氨基醇；或者，所述結構I的化合物為選自于由2,2-二甲基-1,3-丙二胺、1,3-二氨基戊烷及2-3-氨丙基胺乙醇所組成的組的二胺；3至少一種結構II的化合物： 其中：Z1及Z2各自獨立地為-CR8-或-N-，其中，R8為H、NRb2、COOH、C1-C3烷基，每個Rb獨立地為H或C1-C3烷基；或Z1及Z2一起形成與結構II中的5元環稠合的5-6元環；Z3為-C-或-N-；及R7為H、COOH、C1-C3烷基或NR92，其中，每個R9獨立地為H或C1-C3烷基，其限制條件為當Z3為-N-時，R7被刪除；4至少一種四烷基銨鹽，所述至少一種四烷基銨鹽與氫氧化四甲基銨的鹽不同；及5水；其中，所述組合物具有至少10的pH，其中，所述組合物不包括氫氧化四甲基銨或其鹽，且所述組合物具有至少100：1的多晶硅對氮化硅移除速率比率；其中，所述組合物不包括氧化劑和乙二胺。

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