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恭喜上海邦芯半導體科技有限公司吳堃獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜上海邦芯半導體科技有限公司申請的專利一種進氣結構及等離子刻蝕設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111430213B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010379297.2,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權一種進氣結構及等離子刻蝕設備是由吳堃;楊猛設計研發完成,并于2020-05-07向國家知識產權局提交的專利申請。

一種進氣結構及等離子刻蝕設備在說明書摘要公布了:本發明涉及半導體集成電路制造技術領域,公開了一種進氣結構及等離子刻蝕設備。即通過對第一閥門的導通截止控制,能夠將并排的多條進氣支路可調地分成兩部分:一部分排列相鄰的進氣支路導入分配后的其中一路進氣,另一部分排列相鄰的進氣支路導入分配后的另一路進氣,進而可通過進氣支路的可調節組合,來達成對氣體分區及室內氣體分布影響區域的可調節組合,使得室內不同氣體分布影響區域的分界點不再固化,可方便用戶進行自定義,最終實現對室內氣體分布進行靈活把控的目的,拓展了適用范圍,以及大大增加了等離子刻蝕設備在均勻性和一致性方面的調節能力,可提升刻蝕工藝的產品質量。

本發明授權一種進氣結構及等離子刻蝕設備在權利要求書中公布了:1.一種進氣結構,其特征在于,包括氣體分配器1和并排的至少三條進氣支路2,其中,所述氣體分配器1的輸入端作為總進氣口;各條所述進氣支路2的第一端分別一一對應地連通一個獨立的氣體分區3,并有一條所述進氣支路2的第二端連通所述氣體分配器1的第一輸出端,以及有另一條所述進氣支路2的第二端連通所述氣體分配器1的第二輸出端,多個所述氣體分區3分別用于一一對應地連通在刻蝕反應室內腔中的不同氣體分布影響區域;針對排列相鄰的兩條所述進氣支路2,其中一條所述進氣支路2的第二端連通第一閥門401的一端,另一條所述進氣支路2的第二端連通所述第一閥門401的另一端;針對排列非相鄰的兩條所述進氣支路2,其中一條所述進氣支路2的第二端連通第二閥門402的一端以及通過第三閥門403連通對應的所述第一閥門401,另一條所述進氣支路2的第二端連通所述第二閥門402的另一端以及通過第四閥門404連通對應的所述第一閥門401;所述進氣支路2包括有氣路并聯的一條進氣主路221和至少一條進氣分路222,其中,所述進氣主路221和各條所述進氣分路222中分別布置有限流墊圈201,所述進氣分路222中還布置有第五閥門405。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人上海邦芯半導體科技有限公司,其通訊地址為:201508 上海市金山區衛昌路293號2幢12638室;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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