恭喜梅特勒-托萊多有限公司P·W·伯格斯特龍獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜梅特勒-托萊多有限公司申請的專利氣體室獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114467016B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080068133.6，技術領域涉及：G01N21/03；該發明授權氣體室是由P·W·伯格斯特龍;M·塔茲瑞特;R·康茲拉;F·文圖里尼;M·赫特爾設計研發完成，并于2020-09-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本氣體室在說明書摘要公布了：本發明涉及一種用于對氣體進行光譜式的、尤其是吸收光譜式的分析的氣體室1，在該氣體室中，所述氣體暴露于電磁輻射的入射射束S中，并且該電磁輻射的從該氣體出來的出射射束SA以形成測量信號，其中，該氣體室1具有由對電磁輻射進行散射的多孔材料所構成的主體10、用于將入射射束S耦入到氣體室1中的耦入裝置20，和用于將出射射束SA從氣體室1耦出的耦出裝置30，其中，根據本發明地在主體10中擴展構造有無材料的腔12，該腔被在該材料內部延伸的內表面14包圍，該內表面對所述電磁輻射不僅進行漫反射而且進行透射。
本發明授權氣體室在權利要求書中公布了：1.一種用于對氣體進行吸收光譜式的分析的氣體室1，在所述氣體室中，所述氣體暴露于電磁輻射的入射射束S中，并且檢測所述電磁輻射的從所述氣體出來的出射射束SA以形成測量信號，所述吸收作為在所述氣體的共振頻率中的出射射束的強度降低而被檢測到，其中，所述氣體室1具有：由對所述電磁輻射進行散射的多孔材料所構成的主體10，和用于將所述入射射束S耦入到所述氣體室1中的耦入裝置20和用于將所述出射射束SA從所述氣體室1耦出的耦出裝置30，其特征在于，在所述主體10中構造有無材料的腔12，所述腔被在所述材料內部延伸的內表面14包圍，所述內表面對所述電磁輻射不僅進行漫反射而且進行透射，其中，所述多孔材料對所述氣體是可穿透的，使得在所述氣體室1與所述氣體接觸時，所述氣體侵入所述多孔材料中并進入所述腔12中。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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