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龍圖騰網恭喜荷蘭應用自然科學研究組織TNO申請的專利功能材料至靶材表面上的可控沉積獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115398034B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180025731.X，技術領域涉及：C23C26/00；該發明授權功能材料至靶材表面上的可控沉積是由羅布·雅各布·亨德里克斯設計研發完成，并于2021-03-31向國家知識產權局提交的專利申請。

本功能材料至靶材表面上的可控沉積在說明書摘要公布了：本文提供了板1，其包括將要使用具有波長λR3的單色光子輻射R3沉積到靶材表面51上的功能材料2。所述板包括基底10，所述基底10具有被引導朝向靶材表面的第一表面11和接收單色光子輻射的第二表面12。第一表面11被圖案化為具有一個或多個凹陷區域111，所述凹陷區域111具有介電涂層4并且填充有所述功能材料。介電涂層4包括一系列折射率交替的介電涂層子層41,42,43。與對于以45度角入射到介電涂層4的所述單色輻射R3的反射率相比，所述介電涂層4對于垂直于介電涂層4入射的所述單色輻射R3具有相對高的反射率。從而減輕了剪切力，而不需要高的對準精度。本申請還提供了包括該板的沉積裝置和涉及該板的方法。

本發明授權功能材料至靶材表面上的可控沉積在權利要求書中公布了：1.使用具有波長λR3的單色輻射R3將功能材料2可控沉積到靶材表面51上的方法，所述方法包括：-提供具有基底10的透明載板1，所述基底10具有相互相對的第一表面11和第二表面12，其中向所述第一表面11提供一個或多個凹陷區域111；-在所述第一表面11上沉積介電涂層4，所述介電涂層4包括一系列折射率交替的介電涂層子層41,42,43，與對于以45度角入射到所述介電涂層4的所述單色輻射R3的反射率相比，所述介電涂層4對于垂直于所述介電涂層4入射的所述單色輻射R3具有相對高的反射率；-用所述功能材料2填充所述一個或多個凹陷區域111；-將所述透明載板1定位在單色輻射源3和所述靶材表面51之間，其中所述第一表面11面對所述靶材表面51；-將所述單色輻射R3引導朝向所述透明載板1的所述第二表面12，所述單色輻射R3具有引起功能材料2從所述一個或多個凹陷區域111轉移到所述靶材表面51的強度和持續時間。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人荷蘭應用自然科學研究組織TNO，其通訊地址為：荷蘭海牙；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。