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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國科學(xué)院國家空間科學(xué)中心申請的專利一種空間高溫材料X射線圖像對比度增強方法和系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114820335B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111273254.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T5/90；該發(fā)明授權(quán)一種空間高溫材料X射線圖像對比度增強方法和系統(tǒng)是由于強;劉曉珂設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-10-29向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種空間高溫材料X射線圖像對比度增強方法和系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種空間高溫材料X射線圖像對比度增強方法，該方法包括：接收空間高溫材料X射線圖像；為X射線圖像添加掩膜，得到感興趣域圖像；通過對感興趣域圖像進行高斯高通濾波處理，去除傅里葉變換低頻率成分，得到高頻細節(jié)圖像；對高頻細節(jié)圖像加上感興趣域圖像，形成邊緣強調(diào)的感興趣域圖像；對邊緣強調(diào)的感興趣域圖像進行灰度加權(quán)直方圖均衡化處理，獲得對比度增強圖像；將對比度增強圖像進行二階可控核回歸，去除對比度增強造成的塊效應(yīng)和產(chǎn)生的噪音污染，獲得去除塊效應(yīng)的對比度增強圖像。本發(fā)明提高對比度和邊緣細節(jié)并去除因?qū)Ρ榷仍鰪娫斐傻膲K效應(yīng)和噪聲污染，使高溫材料生長過程清晰可見，方便分析材料生長的界面動力學(xué)問題。

本發(fā)明授權(quán)一種空間高溫材料X射線圖像對比度增強方法和系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種空間高溫材料X射線圖像對比度增強方法，所述方法包括：接收空間高溫材料X射線圖像；為X射線圖像添加掩膜，得到感興趣域圖像；通過對感興趣域圖像進行高斯高通濾波處理，去除傅里葉變換低頻率成分，得到高頻細節(jié)圖像；對高頻細節(jié)圖像加上感興趣域圖像，形成邊緣強調(diào)的感興趣域圖像；對邊緣強調(diào)的感興趣域圖像進行灰度加權(quán)直方圖均衡化處理，獲得對比度增強圖像；將對比度增強圖像進行二階可控核回歸，去除對比度增強造成的塊效應(yīng)和產(chǎn)生的噪音污染，獲得去除塊效應(yīng)的對比度增強圖像；所述將對比度增強圖像進行二階可控核回歸，去除對比度增強造成的塊效應(yīng)和產(chǎn)生的噪音污染，獲得去除塊效應(yīng)的對比度增強圖像；具體包括：根據(jù)下式計算可控核回歸函數(shù)： 其中det·表示取矩陣的行列式，Cp為基于局部灰度差異的協(xié)方差矩陣，h為全局平滑參數(shù)，up為設(shè)置為1的常數(shù)，Hp為平滑矩陣，表示滑動窗口中一像素，xp為滑動窗口中像素a的相鄰像素，上角標T表示轉(zhuǎn)置，滿足下式： 其中，Zx1·和Zx2·為沿著水平和垂直方向圖像的一階導(dǎo)數(shù)，wq為第q個局部分析窗口，xj為屬于局部分析窗口的第j個像素；將高頻增強灰度加權(quán)直方圖均衡化后的圖像代入可控核回歸函數(shù)，得到去除塊效應(yīng)和減弱噪聲污染的圖像，獲得去除塊效應(yīng)的對比度增強圖像。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人中國科學(xué)院國家空間科學(xué)中心，其通訊地址為：100190 北京市海淀區(qū)中關(guān)村南二條1號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。