恭喜合肥晶合集成電路股份有限公司陳維邦獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜合肥晶合集成電路股份有限公司申請的專利背照式圖像傳感器及其制作方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119653883B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510174823.4,技術領域涉及:H10F39/12;該發明授權背照式圖像傳感器及其制作方法是由陳維邦設計研發完成,并于2025-02-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本背照式圖像傳感器及其制作方法在說明書摘要公布了:本公開涉及一種背照式圖像傳感器及其制作方法,涉及集成電路技術領域。制作方法包括:提供襯底,襯底包括相對的第一表面和第二表面,襯底內形成有第一隔離結構,第一隔離結構自第一表面延伸到第二表面;形成第二隔離結構和金屬柵格,第二隔離結構對應于第一隔離結構設置在第一表面,第二隔離結構在第一表面間隔設置,第二隔離結構和金屬柵格沿遠離第一表面的方向依次排列;在第二隔離結構之間形成光電二極管,光電二極管與第二隔離結構在第一表面交替設置;在光電二極管遠離襯底的一側形成濾光元件,濾光元件位于相鄰的金屬柵格之間;本公開降低了背照式圖像傳感器的串擾問題。
本發明授權背照式圖像傳感器及其制作方法在權利要求書中公布了:1.一種背照式圖像傳感器的制作方法,其特征在于,包括:提供襯底,所述襯底包括相對的第一表面和第二表面,所述襯底內形成有第一隔離結構,所述第一隔離結構自所述第一表面延伸到所述第二表面;形成第二隔離結構和金屬柵格,所述第二隔離結構對應于所述第一隔離結構設置在所述第一表面,所述第二隔離結構在所述第一表面間隔設置,所述第二隔離結構和所述金屬柵格沿遠離所述第一表面的方向依次排列;在所述第二隔離結構之間形成光電二極管,所述光電二極管與所述第二隔離結構在所述第一表面交替設置;在所述光電二極管遠離所述襯底的一側形成濾光元件,所述濾光元件位于相鄰的所述金屬柵格之間;形成第二隔離結構和金屬柵格,包括:在所述第一表面上形成金屬疊層,所述金屬疊層包括層疊的多層金屬層;圖案化所述金屬疊層,所述金屬疊層的頂層金屬層形成所述金屬柵格,所述金屬柵格下方的金屬層形成所述第二隔離結構。
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