恭喜中國科學院上海技術物理研究所王振獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜中國科學院上海技術物理研究所申請的專利一種從云母基底上轉移二維薄膜的方法及前處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119767863B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510272059.4，技術領域涉及：H10F71/00；該發明授權一種從云母基底上轉移二維薄膜的方法及前處理方法是由王振;段世坤;胡偉達;趙天歌;胡佳鵬;仲方;王鵬;何志平;姚碧霂設計研發完成，并于2025-03-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種從云母基底上轉移二維薄膜的方法及前處理方法在說明書摘要公布了：本發明屬于薄膜轉移技術領域，具體涉及一種從云母基底上轉移二維薄膜的方法及前處理方法。本發明先后利用酸性溶液和堿金屬氯化鹽溶液對云母基底進行處理，能夠在不損傷二維薄膜的基礎上，減弱云母基底對二維薄膜的結合力，顯著提升二維薄膜轉移的質量，減少了因轉移引入的材料缺陷和晶格畸變，實現了便利、高效地轉移高質量二維薄膜的目的。本發明提供的前處理方法適用于不同類型的二維薄膜的轉移工藝，且轉移成功率高、樣品損傷小、成本低、效率快。
本發明授權一種從云母基底上轉移二維薄膜的方法及前處理方法在權利要求書中公布了：1.一種從云母基底上轉移二維薄膜的前處理方法，其特征在于，包括：將生長有二維薄膜的云母基底先在酸性溶液中進行第一浸漬，然后在堿金屬氯化鹽溶液中進行第二浸漬；所述酸性溶液不和二維薄膜發生反應。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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