恭喜巴斯夫歐洲公司I·C·周獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜巴斯夫歐洲公司申請的專利用于清潔或清洗產品的包含一級和二級表面活性劑的組合物獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111386332B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201880076649.8,技術領域涉及:C11D1/835;該發明授權用于清潔或清洗產品的包含一級和二級表面活性劑的組合物是由I·C·周;A·克里普;B·費斯提爾設計研發完成,并于2018-11-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于清潔或清洗產品的包含一級和二級表面活性劑的組合物在說明書摘要公布了:本發明描述一種用于清潔或清洗產品、優選在半導體行業中所用的產品的組合物,其包含含有一個或多個氟烷基的離子化合物作為一級表面活性劑,和至少一種含有一個或多個聚烷氧基和或聚亞烷氧基的非離子化合物作為二級表面活性劑,以及該組合物的相應用途。本發明進一步描述一種生產經清潔或清洗的產品、優選在半導體行業中所用的產品的方法,該產品包含基板和其上所支撐的圖案化材料層,該圖案化材料層具有線寬為等于或低于50nm的線?間隙結構,該方法包括用本發明的組合物清潔或清洗該產品的步驟。
本發明授權用于清潔或清洗產品的包含一級和二級表面活性劑的組合物在權利要求書中公布了:1.一種用于清潔或清洗產品的組合物,其包含:A式I離子化合物作為一級表面活性劑, 其中X是不含金屬的單價陽離子,其選自由以下組成的組:-質子和-基團NR4+,其中每個R獨立地選自由以下組成的組:H和支化或未支化的C1-6烷基;Y1與Y2中的一個是選自由以下組成的組的陰離子極性基團:-COO-、-SO3-、-OSO3-、-PO32-和-OPO32-,且另一個是氫,基團Z1、Z2和Z3各自彼此獨立地是:-具有結構Ri-{A[-CR1R2-]c[-CR3R4-]d}e-的基團,其中:R1、R2、R3和R4彼此獨立地是氫或支化或未支化的C1-4烷基,Ri是支化或未支化的C1-10氟烷基,A是氧、硫和或-NH-,c是在1至10范圍內的整數,d是在1至10范圍內的整數,e是在1至5范圍內的整數,和B至少一種含有一個或多個聚烷氧基和或聚亞烷氧基的非離子化合物作為二級表面活性劑,所述至少一種非離子化合物是選自由以下組成的組:B1式II化合物,其中式II化合物選自由以下組成的組:-式IIa化合物: 其中R6是支化或未支化的C2-6亞烷基,R18是氫或支化或未支化的C1-4烷基,且l是在5至30范圍內的整數,-式IIb化合物: 其中R6是支化或未支化的C2-6亞烷基,R18是氫或支化或未支化的C1-4烷基,且l是在5至30范圍內的整數,和-它們的混合物;B2式III化合物,H3C-CH2m-CH2-[O-R7]n-OR19III其中R7是支化或未支化的C2-6亞烷基,R19是氫或支化或未支化的C1-4烷基,m是在5至30范圍內的整數;且n是在5至30范圍內的整數;B3式IV化合物, 其中R17是支化或未支化的C2-6亞烷基,且o是在5至30范圍內的整數,B4式V化合物, 其中R8、R13和R14各自彼此獨立地是氫或甲基,R9、R11和R12各自彼此獨立地是支化或未支化的C2-6亞烷基,R10是支化或未支化的C1-4烷基,且p、q和r各自彼此獨立地是在2至25范圍內的整數,和B5式VI化合物,H3C3Si-O-R15-O-SiCH33VI其中R15由以下組成:數目在1至100范圍內的式VII重復單元:-[SiCH32-O]-VII,和數目在1至100范圍內的式VIII重復單元:-[SiCH3R16-O]-VIII,其中R16是包含一個或多個乙二醇基團和或一個或多個丙二醇基團的基團,且其中這些式VII重復單元和這些式VIII重復單元如下排列:-無規排列,或-在無規交替嵌段中排列,這些無規交替嵌段在每種情況下按每嵌段計包含兩個或更多個式VII重復單元或式VIII重復單元。
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