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恭喜株式會(huì)社東芝;東芝電子元件及存儲(chǔ)裝置株式會(huì)社西川俊幸獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜株式會(huì)社東芝;東芝電子元件及存儲(chǔ)裝置株式會(huì)社申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113394275B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202010798554.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D64/62；該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體裝置是由西川俊幸;菅原秀人設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-08-11向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本半導(dǎo)體裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明的實(shí)施方式的半導(dǎo)體裝置具備：包含n型雜質(zhì)的III?V族半導(dǎo)體層；第1導(dǎo)電層，所述第1導(dǎo)電層設(shè)置于III?V族半導(dǎo)體層上，包含Ti鈦及可成為III?V族半導(dǎo)體層的p型雜質(zhì)的第1元素，且具有第1區(qū)域和第1元素濃度高于第1區(qū)域的第2區(qū)域；和設(shè)置于第1導(dǎo)電層上的第2導(dǎo)電層。

本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體裝置，其具備：III-V族半導(dǎo)體層，所述III-V族半導(dǎo)體層包含n型雜質(zhì)；第1導(dǎo)電層，所述第1導(dǎo)電層設(shè)置于所述III-V族半導(dǎo)體層上，包含Ti鈦及Zn鋅，且具有第1區(qū)域和Zn鋅的濃度高于所述第1區(qū)域的第2區(qū)域；和第2導(dǎo)電層，所述第2導(dǎo)電層設(shè)置于所述第1導(dǎo)電層上，且包含Au金。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人株式會(huì)社東芝;東芝電子元件及存儲(chǔ)裝置株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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