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龍圖騰網恭喜研能科技股份有限公司申請的專利微流體致動器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111434603B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201910034831.3，技術領域涉及：B81B3/00；該發明授權微流體致動器是由莫皓然;余榮侯;張正明;戴賢忠;廖文雄;黃啟峰;韓永隆;陳宣愷設計研發完成，并于2019-01-15向國家知識產權局提交的專利申請。

本微流體致動器在說明書摘要公布了：一種微流體致動器，包含：一基板，具有多個第一出流孔洞以及多個第二出流孔洞；一腔體層，具有一儲流腔室；一振動層；一第一金屬層；一壓電致動層；一第二金屬層，具有一上電極焊墊以及一下電極焊墊；一入口層；一共振層；以及一陣列孔片；提供具有不同相位電荷的驅動電源至上電極焊墊以及下電極焊墊，以驅動并控制振動層產生上下位移，使流體自入口層吸入，匯流至儲流腔室，最后受擠壓經由多個第一出流孔洞以及多個第二出流孔洞并推開陣列孔片后排出以完成流體傳輸。

本發明授權微流體致動器在權利要求書中公布了：1.一種微流體致動器，其特征在于，包含：一基板，具有一第一表面及一第二表面，透過蝕刻制程形成一出口溝槽、多個第一出流孔洞以及多個第二出流孔洞，該出口溝槽與該多個第一出流孔洞以及該多個第二出流孔洞相連通，該多個第二出流孔洞設置在該多個第一出流孔洞的外側；一腔體層，透過沉積制程形成于該基板的該第一表面上，且透過蝕刻制程形成一儲流腔室，該儲流腔室與該多個第一出流孔洞以及該多個第二出流孔洞相連通；一振動層，透過沉積制程形成于該腔體層上，且透過蝕刻制程形成多個流體溝槽以及一振動區，該多個流體溝槽對稱形成于該振動層的相對兩側，借以定義出該振動區；一第一金屬層，透過沉積制程形成于該振動層上，且透過蝕刻制程形成一下電極區、多個阻障區以及多個間隙，該下電極區形成于對應該振動區的位置，該多個間隙形成于該下電極區與該多個阻障區之間，該多個阻障區對應形成于該多個流體溝槽之外側位置；一壓電致動層，透過沉積制程形成于該第一金屬層上，且透過蝕刻制程于對應該第一金屬層的該下電極區的位置形成一作動區；一隔離層，透過沉積制程形成于該壓電致動層與該第一金屬層上，且透過蝕刻制程于該多個間隙內形成多個間隙壁；一第二金屬層，透過沉積制程形成于該壓電致動層、該第一金屬層以及該隔離層上，且透過蝕刻制程于該第一金屬層上形成一上電極焊墊以及一下電極焊墊；一防水層，透過鍍膜制程形成于該第一金屬層、該第二金屬層以及該隔離層上，并透過蝕刻制程露出該上電極焊墊以及該下電極焊墊；一光阻層，透過顯影制程形成于該第一金屬層、該第二金屬層以及該防水層上；一入口層，透過蝕刻制程或激光制程形成多個流體入口；一流道層，形成于該入口層上，且透過光刻制程形成一入流腔室、多個入流通道以及多個流道入口，該多個流道入口分別與該入口層的該多個流體入口相連通，該多個入流通道以及該多個流道入口圍繞設置于該入流腔室周圍，該多個入流通道連通于該多個流道入口與該入流腔室之間；一共振層，透過滾壓制程形成于該流道層上，透過蝕刻制程形成一腔體通孔，且透過翻轉對位制程以及晶圓接合制程接合于該光阻層上；以及一陣列孔片，透過粘貼制程形成于該基板上，該陣列孔片具有多個孔片孔洞，該多個孔片孔洞與該多個第一出流孔洞以及該多個第二出流孔洞相互錯位設置，借此封閉該第一基板的該多個第一出流孔洞以及該多個第二出流孔洞；其中，提供具有不同相位電荷的驅動電源至該上電極焊墊以及該下電極焊墊，以驅動并控制該振動層的該振動區產生上下位移，使流體自該多個流體入口吸入，通過該多個入流通道流至該入流腔室，再通過該腔體通孔流至該共振腔室，通過該多個流體溝槽流至該儲流腔室，最后受擠壓經由該多個第一出流孔洞以及該多個第二出流孔洞并推開該陣列孔片后自該多個孔片孔洞排出以完成流體傳輸。

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