恭喜湖北科技學院張亞平獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜湖北科技學院申請的專利一種基于雙周期石墨烯陣列的復合結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112526797B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011504143.8，技術領域涉及：G02F3/02；該發明授權一種基于雙周期石墨烯陣列的復合結構是由張亞平設計研發完成，并于2020-12-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于雙周期石墨烯陣列的復合結構在說明書摘要公布了：本發明提供了一種基于雙周期石墨烯陣列的復合結構，屬于全光通信技術領域。包括若干個周期復合單元，每個復合單元包括第一電介質層、第二電介質層和單層石墨烯，復合單元的排列方式為：由復合結構的入射方向一側至另一側依次設置單層石墨烯、第一電介質層、單層石墨烯、第二電介質層；第一電介質層的厚度小于第二電介質層；出射方一側為一層石墨烯。本發明具有共振態的共振性強等優點。
本發明授權一種基于雙周期石墨烯陣列的復合結構在權利要求書中公布了：1.一種基于雙周期石墨烯陣列的復合結構，其特征在于，包括若干個周期復合單元，所述復合單元包括第一電介質層A、第二電介質層B和單層石墨烯g，所述復合單元的排列方式為：由復合結構的入射方向一側至另一側依次設置單層石墨烯g、第一電介質層A、單層石墨烯g、第二電介質層B；所述第一電介質層A的厚度小于第二電介質層B；所述復合單元的出射方一側為石墨烯g；隨著輸入波長的增加，透射譜上有很多的共振峰，對應的是共振態，共振態的模場分布會集中在電介質的分界面上，因此光場具有局域性，單層石墨烯g正好位于第一電介質層A或第二電介質層B的分界面上，利用該結構的共振態來增強石墨烯的非線性效應，得到低閾值的光學雙穩態；所述第一電介質層A和第二電介質層B均為二氧化硅材質的透光材料制成；所述第二電介質層B的厚度為第一電介質層A的厚度的四倍。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人湖北科技學院，其通訊地址為：437100 湖北省咸寧市咸安區咸寧大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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