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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于控制制造過程的方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115066657B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180013688.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)用于控制制造過程的方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備是由J·S·威爾登伯格;H·A·迪倫;馮帆;R·范埃特森;W·L·范米羅;科恩·蒂斯設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-01-14向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于控制制造過程的方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備在說明書摘要公布了：公開了一種用于控制在襯底上制造半導(dǎo)體器件的過程的方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備。所述方法包括：獲得與所述過程相關(guān)的過程數(shù)據(jù)，以及基于所述過程數(shù)據(jù)和與所述襯底上的所述器件相關(guān)聯(lián)的第一控制目標(biāo)來確定所述過程的校正。所述第一控制目標(biāo)可實(shí)現(xiàn)的第一概率被確定，并且所述校正基于所述概率和至少第二控制目標(biāo)來調(diào)整，所述第二控制目標(biāo)與所述第一控制目標(biāo)相比具有可實(shí)現(xiàn)的第二概率。

本發(fā)明授權(quán)用于控制制造過程的方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于控制在襯底上制造半導(dǎo)體器件的過程的方法，所述方法包括：獲得與所述過程相關(guān)的過程數(shù)據(jù)；基于所述過程數(shù)據(jù)以及與所述襯底上的所述器件相關(guān)聯(lián)的第一控制目標(biāo)來確定所述過程的校正；確定所述第一控制目標(biāo)能夠?qū)崿F(xiàn)的第一概率；以及基于所述第一概率和至少第二控制目標(biāo)來調(diào)整所述校正，所述第二控制目標(biāo)與所述第一控制目標(biāo)相比具有能夠?qū)崿F(xiàn)的第二概率。

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